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1. (WO2019065164) ポリイミド前駆体樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド樹脂膜、積層体の製造方法、カラーフィルタの製造方法、液晶素子の製造方法および有機EL素子の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/065164 国際出願番号: PCT/JP2018/033281
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 07.09.2018
IPC:
C08L 79/08 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,B32B 27/34 (2006.01) ,C08G 73/10 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1333 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
79
グループ61/00から77/00に属さない,主鎖のみに酸素または炭素を含みまたは含まずに窒素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物
04
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
08
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミドプリカーサー
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
34
ポリアミドからなるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73
グループ12/00~71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
06
高分子の主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合物;ポリヒドラジド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
10
ポリイミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイミド前駆物質
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
佐伯 昭典 SAEKI, Akinori; JP
立花 康子 TACHIBANA, Yasuko; JP
宮崎 大地 MIYAZAKI, Daichi; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-18450126.09.2017JP
発明の名称: (EN) POLYIMIDE PRECURSOR RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE RESIN FILM, PRODUCTION METHOD FOR LAYERED PRODUCT, PRODUCTION METHOD FOR COLOR FILTER, PRODUCTION METHOD FOR LIQUID CRYSTAL ELEMENT, AND PRODUCTION METHOD FOR ORGANIC EL ELEMENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DE PRÉCURSEUR DE POLYIMIDE, COMPOSITION DE RÉSINE DE POLYIMIDE, FILM DE RÉSINE DE POLYIMIDE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN PRODUIT STRATIFIÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILTRE COULEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT CRISTAL LIQUIDE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT EL ORGANIQUE
(JA) ポリイミド前駆体樹脂組成物、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミド樹脂膜、積層体の製造方法、カラーフィルタの製造方法、液晶素子の製造方法および有機EL素子の製造方法
要約:
(EN) This polyimide precursor resin composition contains: a polyimide precursor (A) containing a structure represented by general formula (1) and a structural unit represented by general formula (2); and a solvent (B). The polyimide precursor (A) contains 5-30 mass% of the structure represented by general formula (1), where the amount of the entire polyimide precursor (A) is 100 mass%. The solvent (B) contains at least one solvent (B1) having an SP value of 7.7-9.0, and at least one solvent (B2) having an SP value of more than 9.0 but not more than 12.5. (In general formula (1), R1 and R2 each independently represent a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, and m represents an integer of 3-200.) (In general formula (2), R3 represents a divalent organic group, R4 represents a tetravalent organic group, and Y1 and Y2 each independently represent a hydrogen atom, a monovalent organic group having 1-10 carbon atoms, or a monovalent alkylsilyl group having 1-10 carbon atoms.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine de précurseur de polyimide, qui contient : un précurseur de polyimide (A) contenant une structure représentée par la formule générale (1) et un motif structural représenté par la formule générale (2) ; et un solvant (B). Le précurseur de polyimide (A) contient 5 à 30 % en masse de la structure représentée par la formule générale (1), la quantité du précurseur de polyimide (A) total étant de 100 % en masse. Le solvant (B) contient au moins un solvant (B1) ayant un paramètre de solubilité de 7,7 à 9,0, et au moins un solvant (B2) ayant un paramètre de solubilité supérieur à 9,0 mais non supérieur à 12,5. (Dans la formule générale (1), R1 et R2 représentent chacun d'une manière indépendante un groupe organique monovalent ayant 1 à 20 atomes de carbone, et m représente un entier de 3 à 200.) (Dans la formule générale (2), R3 représente un groupe organique divalent, R4 représente un groupe organique tétravalent, et Y1 et Y2 représentent chacun d'une manière indépendante un atome d'hydrogène, un groupe organique monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone, ou un groupe alkylsilyle monovalent ayant 1 à 10 atomes de carbone.)
(JA) ポリイミド前駆体樹脂組成物は、一般式(1)で表される構造および一般式(2)で表される構造単位を含むポリイミド前駆体(A)と、溶媒(B)とを含む。ポリイミド前駆体(A)は、ポリイミド前駆体(A)全体の量を100質量%とした場合、一般式(1)で表される構造を5~30質量%含む。溶媒(B)は、SP値が7.7以上、9.0以下である溶媒(B1)と、SP値が9.0より大きく12.5以下である溶媒(B2)と、をそれぞれ1種以上含む。 (一般式(1)中、RおよびRは、各々独立に、炭素数1~20の一価の有機基を示す。mは3~200の整数を示す。) (一般式(2)中、Rは二価の有機基を示し、Rは四価の有機基を示す。YおよびYは、各々独立に、水素原子、炭素数1~10の一価の有機基または炭素数1~10の一価のアルキルシリル基を示す。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)