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1. (WO2019065129) 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版
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国際公開番号: WO/2019/065129 国際出願番号: PCT/JP2018/032855
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 05.09.2018
予備審査請求日: 05.02.2019
IPC:
G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
田代 宏 TASHIRO Hiroshi; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2017-18667227.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, AND FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PRÉCURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE ET PLAQUE D'IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing: a photosensitive resin composition having excellent handling performance and printing durability when used to produce a flexographic printing plate; a flexographic printing plate precursor; and a flexographic printing plate in which the photosensitive resin composition is used. This photosensitive resin composition contains a rubber, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerization initiator. The photopolymerizable monomer contains a polymerizable heterocyclic compound having an ethylenic unsaturated bond and a heterocycle.
(FR) La présente invention aborde le problème de la réalisation : d'une composition de résine photosensible ayant d'excellentes performances de manipulation et une excellente durabilité d'impression lorsqu'elle est utilisée pour produire une plaque d'impression flexographique; d'un précurseur de plaque d'impression flexographique; et d'une plaque d'impression flexographique dans laquelle la composition de résine photosensible est utilisée. La solution selon l'invention porte sur une composition de résine photosensible qui contient un caoutchouc, un monomère photopolymérisable et un initiateur de photopolymérisation. Le monomère photopolymérisable contient un composé hétérocyclique polymérisable ayant une liaison insaturée éthylénique et un hétérocycle.
(JA) 本発明は、フレキソ印刷版としたときにハンドリング性および耐刷性に優れる感光性樹脂組成物、ならびに、上記感光性樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版を提供すること課題とする。本発明の感光性樹脂組成物は、ゴム、光重合性モノマー、および、光重合開始剤を含有し、光重合性モノマーが、エチレン性不飽和結合および複素環を有する重合性複素環化合物を含有する、感光性樹脂組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)