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1. (WO2019065056) 有機薄膜トランジスタ
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国際公開番号: WO/2019/065056 国際出願番号: PCT/JP2018/031903
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.08.2018
IPC:
H01L 29/786 (2006.01) ,C08F 220/22 (2006.01) ,C08F 220/34 (2006.01) ,C08G 61/12 (2006.01) ,G01N 27/00 (2006.01) ,H01L 51/05 (2006.01) ,H01L 51/30 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
786
薄膜トランジスタ
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
22
ハロゲンを含有するエステル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
34
窒素を含有するエステル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
61
高分子の主鎖に炭素―炭素連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
12
高分子の主鎖に炭素以外の原子を含む高分子化合物
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
27
電気的,電気化学的,または磁気的手段の利用による材料の調査または分析
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
05
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用されるものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するコンデンサーまたは抵抗器
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
05
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用されるものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するコンデンサーまたは抵抗器
30
材料の選択
出願人:
住友化学株式会社 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 東京都中央区新川二丁目27番1号 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260, JP
発明者:
伊藤 真也 ITO, Shinya; JP
横井 優季 YOKOI, Yuki; JP
吉川 栄二 YOSHIKAWA, Eiji; JP
代理人:
中山 亨 NAKAYAMA, Tohru; JP
坂元 徹 SAKAMOTO, Toru; JP
優先権情報:
2017-18446126.09.2017JP
発明の名称: (EN) ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR
(FR) TRANSISTOR À COUCHES MINCES ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜トランジスタ
要約:
(EN) Provided is an organic thin film transistor wherein carrier mobility is high. This organic thin film transistor comprises a gate electrode, a gate insulation layer (A), a gate insulation layer (B), an organic semiconductor layer, a source electrode, and a drain electrode. The gate insulation layer (A) and the gate insulation layer (B) are provided between the gate electrode and the organic semiconductor layer. One surface of the gate insulation layer (B) is adjacent to the organic semiconductor layer. When γL represents the surface free energy of the gate insulation layer (A), and γS represents the surface free energy of the gate insulation layer (B), γL and γS satisfy formula (11). The gate insulation layer (B) is a layer containing a compound having a group represented by formula (1). (1) -(C=O)-NR- (11) γLS ≥ 5
(FR) L'invention fournit un transistor à couches minces organique qui présente une mobilité de porteur de charge élevée. Ainsi, l'invention concerne un transistor à couches minces qui est équipé d'une électrode de grille, d'une couche d'isolation de grille (A), d'une couche d'isolation de grille (B), d'une couche semi-conductrice organique, d'une électrode source et d'une électrode drain. Plus précisément, ce transistor à couches minces est équipé de la couche d'isolation de grille (A) et de la couche d'isolation de grille (B) entre l'électrode de grille et la couche semi-conductrice organique. Une des faces de la couche d'isolation de grille (B) est en contact avec la couche semi-conductrice organique. Lorsque l'énergie libre superficielle de la couche d'isolation de grille (A) est représentée par γ, et que l'énergie libre superficielle de la couche d'isolation de grille (B) est représentée par γ, alors γ et γ satisfont la formule (11). La couche d'isolation de grille (B) comprend un composé possédant un groupe représenté par la formule (1). -(C=O)-NR- (1) γ-γ≧5 (11)
(JA) キャリア移動度が高い有機薄膜トランジスタを提供する。ゲート電極と、ゲート絶縁層(A)と、ゲート絶縁層(B)と、有機半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極とを備える有機薄膜トランジスタであって、ゲート電極と有機半導体層との間にゲート絶縁層(A)とゲート絶縁層(B)とを備え、ゲート絶縁層(B)の一方の面は有機半導体層に隣接し、ゲート絶縁層(A)の表面自由エネルギーをγ、ゲート絶縁層(B)の表面自由エネルギーをγとして、γとγとが下記式(11)を満足し、ゲート絶縁層(B)が、下記式(1)で表される基を有する化合物を含有する層である有機薄膜トランジスタ。 -(C=O)-NR- (1) γ-γ≧5 (11)
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)