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1. (WO2019065020) ガスバリアフィルム
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国際公開番号: WO/2019/065020 国際出願番号: PCT/JP2018/031245
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 23.08.2018
IPC:
B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 16/42 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22
金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30
化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
42
けい化物
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
望月 佳彦 MOCHIZUKI Yoshihiko; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2017-18693027.09.2017JP
発明の名称: (EN) GAS BARRIER FILM
(FR) FILM BARRIÈRE AUX GAZ
(JA) ガスバリアフィルム
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a gas barrier film having excellent bending resistance, transparency, productivity and the like and also having sufficient gas barrier performance and high-temperature/high-humidity resistance. The gas barrier film has at least one set of a combination of an inorganic layer and a mixed layer, wherein the inorganic layer contains silicon nitride and has a thickness of 2 to 15 nm, the mixed layer contains the component for the inorganic layer and also contains a component for a layer corresponding to a surface on which the inorganic layer is formed, and has a thickness of 2 to 25 nm, and the N/Si atom ratio in the inorganic layer is 0.7 to 0.97.
(FR) La présente invention consiste à fournir un film barrière aux gaz comprenant une résistance à la flexion, une transparence, une productivité et similaires excellentes, et comprenant également une efficacité de barrière aux gaz et une résistance aux températures élevées/à l'humidité élevée suffisantes. Le film barrière aux gaz comprend au moins un ensemble d'une association d'une couche inorganique et d'une couche mixte, la couche inorganique contenant du nitrure de silicium et comprenant une épaisseur de 2 à 15 nm, la couche mixte contenant le constituant destiné à la couche inorganique et contenant également un constituant destiné à une couche correspondant à une surface sur laquelle la couche inorganique est formée, et comprenant une épaisseur de 2 à 25 nm, et le rapport atomique N/Si dans la couche inorganique étant de 0,7 à 0,97.
(JA) 耐屈曲性、透明性および生産性等に優れ、さらに、十分なガスバリア性および高温高湿耐性も有するガスバリアフィルムの提供を課題とする。ガスバリアフィルムは、窒化ケイ素を含有し、厚さが2~15nmである無機層と、無機層の成分および無機層の形成面になる層の成分を含有し、厚さが2~25nmである混合層との組み合わせを、少なくとも1組、有し、無機層のN/Si原子比が0.7~0.97である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)