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1. (WO2019064993) 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
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国際公開番号: WO/2019/064993 国際出願番号: PCT/JP2018/030730
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 21.08.2018
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,C09D 183/04 (2006.01) ,H01L 31/10 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
183
主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づくコーティング組成物;そのような重合体の誘導体に基づくコーティング組成物
04
ポリシロキサン
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
08
輻射線が装置内を流れる電流を制御するもの,例.光―抵抗器(フォト―レジスター)
10
少なくとも1つの電位障壁または表面障壁に特徴のあるもの,例.フォトトランジスタ
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2017-18429326.09.2017JP
発明の名称: (EN) STRUCTURE, COMPOSITION FOR FORMING PARTITION WALLS, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) STRUCTURE, COMPOSITION DE FORMATION DE PAROIS DE SÉPARATION, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
要約:
(EN) Provided is a structure which has partition walls having excellent smoothness and a low refractive index. Also, provided are a composition which is for forming partition walls and which is used in the structure, a solid-state imaging element including the structure, and an image display device. A structure 100 has a support 1, partition walls 2 provided on the support 1, and pixels 4 provided in regions separated by the partition walls, wherein the partition walls 2 are formed using a composition containing a cage siloxane compound. The cage siloxane compound preferably has a partial structure represented by "(*-SiO1.5)n". In the formula, * represents a linking bond, and n represents an integer of 6-16.
(FR) L'invention concerne une structure qui comporte des parois de séparation ayant un excellent lissé et un faible indice de réfraction. L'invention concerne également une composition qui est destinée à former des parois de séparation et qui est utilisée dans la structure, un élément d'imagerie à semi-conducteurs comprenant la structure, et un dispositif d'affichage d'image. La structure (100) comporte un support (1), des parois de séparation (2) disposées sur le support (1), et des pixels (4) disposés dans des régions séparées par les parois de séparation, les parois de séparation (2) étant formées à l'aide d'une composition contenant un composé de siloxane de cage. Le composé de siloxane de cage a de préférence une structure partielle représentée par « (*-SiO1.5)n ». Dans la formule, * représente une liaison et n représente un nombre entier compris entre 6 et 16.
(JA) 屈折率が小さく、平滑性に優れた隔壁を有する構造体を提供する。また、この構造体に用いられる隔壁形成用組成物、構造体を含む固体撮像素子および画像表示装置を提供する。構造体100は、支持体1と、支持体1上に設けられた隔壁2と、隔壁で区切られた領域に設けられた画素4と、を有し、隔壁2がかご型シロキサン化合物を含む組成物を用いて形成された隔壁である。かご型シロキサン化合物は、「(*-SiO1.5」で表される部分構造を有する化合物であることが好ましい。式中、*は連結手を表し、nは6~16の整数を表す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)