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1. (WO2019064969) 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板
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国際公開番号: WO/2019/064969 国際出願番号: PCT/JP2018/030156
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 10.08.2018
IPC:
G02B 1/115 (2015.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 9/00 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,C23C 14/10 (2006.01) ,G02B 1/14 (2015.01) ,G02B 5/30 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
[IPC code unknown for G02B 1/115]
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9
本質的にグループ11/00~29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
08
酸化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
10
ガラスまたはシリカ
[IPC code unknown for G02B 1/14]
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1335
セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ
出願人:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-2, Shimohozumi 1-chome, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
発明者:
宮本 幸大 MIYAMOTO, Kodai; JP
山▲崎▼ 由佳 YAMAZAKI, Yuka; JP
金谷 実 KANATANI, Minoru; JP
梨木 智剛 NASHIKI, Tomotake; JP
代理人:
新宅 将人 SHINTAKU, Masato; JP
吉本 力 YOSHIMOTO, Tsutomu; JP
優先権情報:
2017-18838428.09.2017JP
発明の名称: (EN) ANTI-REFLECTION FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND POLARIZING PLATE WITH ANTI-REFLECTION LAYER
(FR) FILM ANTIREFLET, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET PLAQUE DE POLARISATION À COUCHE ANTIREFLET
(JA) 反射防止フィルムおよびその製造方法、ならびに反射防止層付き偏光板
要約:
(EN) This anti-reflection film (100) comprises an anti-reflection layer (5), which is composed of a plurality of thin films having different refractive indexes, on one main surface of a transparent film substrate (1). The anti-reflection layer comprises a primer layer (50) that is in contact with the transparent film substrate. The primer layer has an argon content of 0.5% by atom or less. The primer layer (50) is, for example, a silicon oxide layer. It is preferable that the anti-reflection film has a water vapor permeability of 1 g/m2·24h or less. A polarizing plate (101) with an anti-reflection layer according to the present invention comprises the above-described anti-reflection film (100) on a polarizer (8).
(FR) La présente invention concerne un film antireflet (100) comprenant une couche antireflet (5), qui est composée d'une pluralité de films minces ayant différents indices de réfraction, disposée sur une surface principale d'un substrat de film transparent (1). La couche antireflet comprend une couche d'apprêt (50) qui est en contact avec le substrat de film transparent. La couche d'apprêt présente une teneur en argon inférieure ou égale à 0,5 % en atome. La couche d'apprêt (50) est, par exemple, une couche d'oxyde de silicium. Il est préférable que le film antireflet ait une perméabilité à la vapeur d'eau inférieure ou égale à 1 g/m2 · 24h. Une plaque de polarisation (101) ayant la couche antireflet selon la présente invention comprend le film antireflet (100) décrit ci-dessus sur un polariseur (8).
(JA) 反射防止フィルム(100)は、透明フィルム基材(1)の一方の主面に、屈折率が異なる複数の薄膜からなる反射防止層(5)を備える。反射防止層は、透明フィルム基材に接するプライマー層(50)を含む。プライマー層は、アルゴンの含有量が0.5原子%以下である。プライマー層(50)は、例えば酸化シリコン層である。反射防止フィルムの透湿度は、1g/m・24h以下が好ましい。反射防止層付き偏光板(101)は、偏光子(8)上に上記の反射防止フィルム(100)を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)