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1. (WO2019064754) 分析方法および分析装置
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国際公開番号: WO/2019/064754 国際出願番号: PCT/JP2018/023895
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 22.06.2018
IPC:
G01N 21/64 (2006.01) ,G01N 21/41 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
62
調査される材料が励起され,それにより光を発しまたは入射光の波長に変化を生ずるシステム
63
光学的励起
64
蛍光;燐光
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
17
調査される材料の特性に応じて入射光が変調されるシステム
41
屈折率;位相に影響を与える性質,例.光路長
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
野田 哲也 NODA Tetsuya; JP
真島 雅尚 MAJIMA Masanao; JP
庄司 祐也 SHOUJI Yuuya; JP
代理人:
特許業務法人SSINPAT SSINPAT PATENT FIRM; 東京都品川区西五反田七丁目13番6号 五反田山崎ビル6階 Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
優先権情報:
2017-18491426.09.2017JP
発明の名称: (EN) ANALYSIS METHOD AND ANALYSIS DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ANALYSE
(JA) 分析方法および分析装置
要約:
(EN) [Problem] To provide an analysis method and analysis device capable of simply preventing the detection of an abnormal measurement result. [Solution] An analysis method for irradiating detection light onto an analysis chip including a substance to be measured and detecting the amount of the substance to be measured by detecting the amount of light emitted from the analysis chip, said analysis method having: a step in which the detection light is irradiated onto an incidence surface of the analysis chip and another surface adjacent to the incidence surface while the position of the analysis chip relative to the detection light is varied, the light reflected by the incidence surface of the analysis chip is detected, and information about the position of the analysis chip is acquired on the basis of the relationship between the amount of detected reflected light and the relative position; and an abnormality determination step in which if the amount of reflected light in question detected when the analysis chip is positioned where the entire beam diameter of the detection light is incident on the incidence surface is less than or equal to a prescribed amount of light, the analysis chip is determined to be abnormal.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un procédé d'analyse et un dispositif d'analyse aptes à empêcher simplement la détection d'un résultat de mesure anormal. La solution selon l'invention porte sur un procédé d'analyse pour émettre une lumière de détection sur une puce d'analyse comprenant une substance à mesurer et détecter la quantité de substance à mesurer par détection de la quantité de lumière émise par la puce d'analyse. Ledit procédé d'analyse ayant : une étape dans laquelle la lumière de détection est émise sur une surface d'incidence de la puce d'analyse et une autre surface adjacente à la surface d'incidence tandis que la position de la puce d'analyse par rapport à la lumière de détection est modifiée, la lumière réfléchie par la surface d'incidence de la puce d'analyse est détectée et des informations concernant la position de la puce d'analyse sont acquises sur la base de la relation entre la quantité de lumière réfléchie détectée et la position relative ; et une étape de détermination d'anomalie dans laquelle, si la quantité de lumière en question réfléchie détectée, lorsque la puce d'analyse est positionnée là où le diamètre de faisceau entier de la lumière de détection est incidente sur la surface d'incidence, est inférieure ou égale à une quantité prescrite de lumière, la puce d'analyse est déterminée comme étant anormale.
(JA) [課題]異常な測定結果が検出されることを容易に防止できる分析方法および分析装置を提供する。 [解決手段]被測定物質を含む分析チップに対して検出光を照射し、前記分析チップより出力される光の光量を検出することにより、前記被測定物質の量を検出する分析方法であって、前記検出光と前記分析チップとの相対位置を変化させながら、前記分析チップの入射面、および前記入射面に隣接する他の面に前記検出光を照射し、前記分析チップの前記入射面での反射光を検出し、検出された反射光量と前記相対位置の関係から分析チップの位置に関する情報を取得する工程を有し、前記検出光の全ビーム径が前記入射面に入射する位置に前記分析チップが位置する時に検出された光量である、対象となる反射光の光量が所定の光量以下である場合に前記分析チップが異常であると判定する異常判定工程をさらに含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)