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1. (WO2019064710) 吸着仮固定シート
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国際公開番号: WO/2019/064710 国際出願番号: PCT/JP2018/022209
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 11.06.2018
IPC:
C09J 7/10 (2018.01) ,B32B 5/18 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,C08J 9/00 (2006.01) ,C09J 7/38 (2018.01) ,C09J 183/04 (2006.01)
[IPC code unknown for C09J 7/10]
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
5
層の不均質または物理的な構造を特徴とする積層体
18
発泡材料または特に多孔性の材料を含む層を特徴とするもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
9
多孔性または海綿状の物品または物質にするための高分子物質の処理;その後処理
[IPC code unknown for C09J 7/38]
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J
接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
183
主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づく接着剤;そのような重合体の誘導体に基づく接着剤
04
ポリシロキサン
出願人:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
発明者:
伊関 亮 ISEKI Toru; JP
加藤 和通 KATO Kazumichi; JP
徳山 英幸 TOKUYAMA Hideyuki; JP
金田 充宏 KANADA Mitsuhiro; JP
代理人:
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
優先権情報:
2017-18857028.09.2017JP
発明の名称: (EN) ADSORPTIVE TEMPORARY FIXING SHEET
(FR) FEUILLE DE FIXATION TEMPORAIRE PAR ASPIRATION
(JA) 吸着仮固定シート
要約:
(EN) An adsorptive temporary fixing sheet is provided which has sufficient shear adhesive strength in the same direction as the surface, weak adhesive strength in the direction perpendicular to the surface, and has excellent antistatic performance. This adsorptive temporary fixing sheet, which has a foam layer having an open-cell structure, has a surface resistivity of 1.0×104 to 1.0×1010 Ω/2, and, defining V1 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength of the surface of said foam layer after 18 hours at -30°C, V2 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength after 18 hours at 23°C and V3 (N/1cm2) as the silicon chip perpendicular adhesive strength after 18 hours at 80°C, and defining H1 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength of the surface of said foam layer after 18 hours at -30°C, H2 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength after 18 hours at 23°C and H3 (N/1cm2) as the silicon chip shear adhesive strength after 18 hours at 80°C, it holds that V1 < H1, V2 < H2 and V3 < H3.
(FR) L'invention fournit une feuille de fixation temporaire par aspiration qui possède une force d'adhésion au cisaillement suffisante dans la même direction que sa surface, mais possède une force d'adhésion faible dans une direction perpendiculaire à sa surface, et qui possède d'excellentes performances antistatiques. La feuille de fixation temporaire par aspiration de l'invention possède une couche de mousse équipée d'une structure en alvéoles ouvertes. Sa résistivité de surface est comprise entre 1,0×10Ω/2 et 1,0×1010Ω/2. Lorsqu'une force d'adhésion perpendiculaire à une puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 18 heures à -30℃ est représentée par V1(N/1cm2), qu'une force d'adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 18 heures à 23°C est représentée par V2(N/1cm2), et qu'une force d'adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 18 heures à 80°C est représentée par V3(N/1cm2), et lorsqu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 18 heures à -30℃ est représentée par H1(N/1cm2), qu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium après 18 heures à 23°C est représentée par H2(N/1cm2), et qu'une force d'adhésion au cisaillement de puce de silicium après 18 heures à -80°C est représentée par H3(N/1cm2), alors V1<H1, V2<H2 et V3<H3.
(JA) 表面と同じ方向には十分なせん断接着力を有し、表面に対して垂直方向には弱い接着力を有し、優れた帯電防止性能を有する、吸着仮固定シートを提供する。 本発明の吸着仮固定シートは、連続気泡構造を備える発泡層を有する吸着仮固定シートであって、表面抵抗率が1.0×10Ω/□~1.0×1010Ω/□であり、該発泡層の表面の、-30℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV1(N/1cm□)、23℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV2(N/1cm□)、80℃で18時間後のシリコンチップ垂直接着力をV3(N/1cm□)とし、該発泡層の表面の、-30℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH1(N/1cm□)、23℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH2(N/1cm□)、80℃で18時間後のシリコンチップせん断接着力をH3(N/1cm□)としたとき、V1<H1、V2<H2、V3<H3である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)