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1. (WO2019064663) 共振子及び共振装置
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国際公開番号: WO/2019/064663 国際出願番号: PCT/JP2018/016719
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 25.04.2018
IPC:
H03H 9/24 (2006.01)
H 電気
03
基本電子回路
H
インビーダンス回路網,例.共振回路;共振器
9
電気機械的または電気音響的素子を含む回路網;電気機械的共振器
24
圧電,電わい,または磁わい以外の材料からなる共振器の構造上の特徴
出願人:
株式会社村田製作所 MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 京都府長岡京市東神足1丁目10番1号 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555, JP
発明者:
井上 義久 INOUE, Yoshihisa; JP
河合 良太 KAWAI, Ryota; JP
代理人:
稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki; JP
大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi; JP
優先権情報:
2017-18821528.09.2017JP
発明の名称: (EN) RESONATOR AND RESONANCE DEVICE
(FR) RÉSONATEUR ET DISPOSITIF DE RÉSONANCE
(JA) 共振子及び共振装置
要約:
(EN) In order to suppress the influence on vibration of the resonator of an electric charge on an insulator layer on a resonator or of a conductive layer on the insulator layer, this resonance device is provided with: a vibration unit comprising an upper electrode and a lower electrode, a piezoelectric film which is provided between the upper electrode and the lower electrode, has a primary surface facing the upper electrode, and which causes the vibration unit to vibrate in a prescribed vibration mode when a voltage is applied between the upper electrode and the lower electrode, a protective film which is provided facing the principal surface of the piezoelectric film with the upper electrode held therebetween and which is exposed in a first region of the vibration unit, a conductive film which is provided facing the aforementioned principal surface of the piezoelectric film with the protective film held therebetween and which is exposed in a second region, which is a region adjacent to the first region of the vibration unit, and a connection electrode which is formed on the protective film and electrically connects the conductive film to the lower electrode; a holding unit which is provided so as to surround at least part of the vibration unit; and a holding arm which connects the vibration unit and the holding unit. The upper electrode is formed such that the surface area of the region overlapping the conductive film is no more than half of the total surface area of the conductive film, or is formed to avoid the region of overlap with the conductive film.
(FR) Selon l'invention, afin de supprimer l'influence sur la vibration du résonateur d'une charge électrique sur une couche isolante sur un résonateur ou d'une couche conductrice sur la couche isolante, ledit dispositif de résonance est pourvu : d'une unité de vibration comprenant une électrode supérieure et une électrode inférieure, d'un film piézoélectrique qui est disposé entre l'électrode supérieure et l'électrode inférieure, lequel présente une surface primaire faisant face à l'électrode supérieure, et amène l'unité de vibration à vibrer dans un mode de vibration prescrit lorsqu'une tension est appliquée entre l'électrode supérieure et l'électrode inférieure, d'un film protecteur qui est disposé face à la surface principale du film piézoélectrique, l'électrode supérieure étant maintenue entre eux, et qui est découvert dans une première région de l'unité de vibration, d'un film conducteur qui est disposé en regard de la surface principale susmentionnée du film piézoélectrique, le film protecteur étant maintenu entre eux, et qui est découvert dans une seconde région, qui est une région adjacente à la première région de l'unité de vibration, et d'une électrode de connexion qui est formée sur le film de protection et connecte électriquement le film conducteur à l'électrode inférieure ; d'une unité de maintien qui est disposée de manière à entourer au moins une partie de l'unité de vibration ; et d'un bras de maintien qui relie l'unité de vibration et l'unité de maintien. L'électrode supérieure est formée de telle sorte que la surface de la région chevauchant le film conducteur n'est pas supérieure à la moitié de la surface totale du film conducteur, ou est formée pour éviter la région de chevauchement avec le film conducteur.<b></b> <b></b>
(JA) 共振子上の絶縁体層又は、絶縁体層上の導電層に印加された電圧が共振子の振動に与える影響を抑制する。 振動部であって、上部電極及び下部電極と、上部電極と下部電極との間に設けられ、上部電極に対向する主面を有し、上部電極及び下部電極の間に電圧が印加されたときに振動部を所定の振動モードで振動させる、圧電膜と、上部電極を挟んで圧電膜の主面と対向して設けられ、振動部における第1領域において露出した、絶縁体からなる保護膜と、保護膜を挟んで圧電膜の前記主面と対向して設けられ、振動部における第1領域と隣接する領域である第2領域において露出した、導電膜と、保護膜に形成され、導電膜を下部電極に電気的に接続させる接続電極と、を有する振動部と、振動部の少なくとも一部を囲むように設けられた保持部と、振動部と保持部とを接続する保持腕とを備え、上部電極は、導電膜と重なり合う領域の面積が導電膜の面積の総和の半分以下となるように、又は導電膜と重なり合う領域を避けて形成された。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)