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1. (WO2019064583) 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
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国際公開番号: WO/2019/064583 国際出願番号: PCT/JP2017/035719
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
青木保夫 AOKI, Yasuo; JP
代理人:
片山修平 KATAYAMA, Shuhei; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SUBSTRATE HANDLING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY, DEVICE PRODUCTION METHOD, SUBSTRATE HANDLING METHOD, AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MANIPULATION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'AFFICHAGE À PANNEAU PLAT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
要約:
(EN) In order to shorten the time required for substrate replacement, this substrate handling device which conveys a substrate to a holding device comprises: a first holding portion which holds the substrate above the holding device; a second holding portion which holds part of the substrate held by the first holding portion; and a drive unit which moves the holding device and one of the second holding portion and the first holding portion relative to one another in such a manner that the first holding portion retracts from above the holding device. The substrate is held during the relative movement of the holding device, first holding portion and second holding portion caused by the drive unit.
(FR) Selon l'invention, afin de raccourcir le temps nécessaire au remplacement d'un substrat, ce dispositif de manipulation de substrat qui transporte un substrat vers un dispositif de maintien comprend: une première partie de maintien qui maintient le substrat au-dessus du dispositif de maintien; une seconde partie de maintien qui maintient une partie du substrat maintenue par la première partie de maintien; et une unité d'entraînement qui déplace le dispositif de maintien et l'une de la seconde partie de maintien et de la première partie de maintien l'une par rapport à l'autre de telle sorte que la première partie de maintien se rétracte depuis le dessus du dispositif de maintien. Le substrat est maintenu pendant le mouvement relatif du dispositif de maintien, de la première partie de maintien et de la seconde partie de maintien provoqué par l'unité d'entraînement.
(JA) 基板交換にかかる時間を短縮するため、基板を保持装置に搬送する基板搬送装置において、前記保持装置の上方で前記基板を保持する第1保持部と、前記第1保持部に保持された前記基板の一部を保持する第2保持部と、前記第1保持部が前記保持装置の上方から退避されるように、前記保持装置及び前記第2保持部と前記第1保持部との一方を他方に対して相対移動させる駆動部と、を備え、前記保持装置と前記第1保持部と前記第2保持部とは、前記駆動部による相対移動中に前記基板を保持する基板搬送装置である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)