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1. (WO2019064577) 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
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国際公開番号: WO/2019/064577 国際出願番号: PCT/JP2017/035710
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
青木保夫 AOKI, Yasuo; JP
代理人:
片山修平 KATAYAMA, Shuhei; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SUBSTRATE HANDLING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, METHOD FOR PRODUCING FLAT PANEL DISPLAY, DEVICE PRODUCTION METHOD, SUBSTRATE HANDLING METHOD, AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MANIPULATION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉCRAN PLAT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, PROCÉDÉ DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 基板搬送装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、基板搬送方法、及び露光方法
要約:
(EN) In order to shorten the time required for substrate replacement, this substrate handling device (100A) which conveys a substrate (P2) to the holding surface (TS) of a holding device comprises: a first holding portion (161A) which holds the substrate (P2) above the holding device; a second holding portion (184a) which holds part of the substrate (P2) held by the first holding portion (161A); and a drive unit (164) which moves the holding device, the second holding portion (184a) and the first holding portion (161A) relative to one another in a predetermined direction along the holding surface, in such a manner that the first holding portion (161A) is retracted from above the holding device. While the first holding portion (161A) is undergoing relative movement caused by the drive unit (164), the substrate (P2) is held in such a manner that the position in the vertical direction of the region of the substrate (P2) which is held by the first holding portion (161A) approaches the holding device.
(FR) Afin de réduire le temps nécessaire au remplacement de substrat, le dispositif de manipulation de substrat (100A) que concerne la présente invention et qui transporte un substrat (P2) vers la surface de maintien (TS) d'un dispositif de maintien comprend : une première partie de maintien (161A) qui maintient le substrat (P2) au-dessus du dispositif de maintien ; une seconde partie de maintien (184a) qui maintient une partie du substrat (P2) maintenu par la première partie de maintien (161A) ; et un mécanisme d'entraînement (164) qui déplace le dispositif de maintien, la seconde partie de maintien (184a) et la première partie de maintien (161A) les uns par rapport aux autres dans une direction prédéterminée le long de la surface de maintien, de telle sorte que la première partie de maintien (161A) est retirée d'une position au-dessus du dispositif de maintien. Pendant que la première partie de maintien (161A) est soumise à un mouvement relatif provoqué par le mécanisme d'entraînement (164), le substrat (P2) est maintenu de telle sorte que la position dans la direction verticale de la région du substrat (P2) qui est maintenue par la première partie de maintien (161A) s'approche du dispositif de maintien.
(JA) 基板交換にかかる時間を短縮するため、基板(P2)を保持装置の保持面(TS)に搬送する基板搬送装置(100A)において、前記保持装置の上方で前記基板(P2)を保持する第1保持部(161A)と、前記第1保持部(161A)に保持された前記基板(P2)の一部を保持する第2保持部(184a)と、前記第1保持部(161A)が前記保持装置の上方から退避されるように、前記保持装置及び前記第2保持部(184a)と前記第1保持部(161A)とを、前記保持面に沿う所定方向へ相対移動させる駆動部(164)と、を備え、前記第1保持部(161A)は、前記駆動部(164)による相対移動中に、前記基板(P2)のうち前記第1保持部(161A)に保持された領域の上下方向の位置が前記保持装置に近づくよう、前記基板(P2)を保持する基板搬送装置(100A)である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)