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1. (WO2019064573) フォトマスク、表示装置及び表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064573 国際出願番号: PCT/JP2017/035705
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G03F 1/00 (2012.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
郡司 遼佑 GUNJI, Ryosuke; --
岡部 達 OKABE, Tohru; --
谷山 博己 TANIYAMA, Hiroki; --
市川 伸治 ICHIKAWA, Shinji; --
齋田 信介 SAIDA, Shinsuke; --
神村 浩治 JINMURA, Hiroharu; --
仲田 芳浩 NAKADA, Yoshihiro; --
井上 彬 INOUE, Akira; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) PHOTOMASK, DISPLAY DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) PHOTOMASQUE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) フォトマスク、表示装置及び表示装置の製造方法
要約:
(EN) This photomask (1) is provided with: transmissive sections that form the openings; semitransmissive sections that form the flat sections; and light-blocking sections that form the photo spacer sections. The light-blocking sections are formed in island shapes among the plurality of transmissive sections which are arrayed in a lattice shape. End sections of the light-blocking sections sandwiched between the two transmissive sections are formed so as to extend along the outer edges of the transmissive sections.
(FR) La présente invention concerne un photomasque (1) qui comporte : des sections transmissives qui forment les ouvertures ; des sections semi-transmissives qui forment les sections plates ; et des sections qui bloquent la lumière et qui forment les sections de photo-espaceur. Les sections qui bloquent la lumière sont formées en formes d'îlot parmi la pluralité de sections transmissives qui sont disposées selon une forme de réseau. Des extrémités des sections qui bloquent la lumière et qui sont prises en sandwich entre les deux sections transmissives sont formées de façon à s'étendre le long des bords extérieurs des sections transmissives.
(JA) フォトマスク(1)は、前記開口部を形成する透過部と、前記平坦部を形成する半透過光部と、前記フォトスペーサ部を形成する遮光部と、を備え、 前記遮光部は格子状に並ぶ複数の前記透過部の間に島状に形成され、 2つの前記透過部に挟まれた前記遮光部の端部は前記透過部の外縁に沿って延伸するように形成される
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)