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1. (WO2019064529) 電極の保護膜の形成方法
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国際公開番号: WO/2019/064529 国際出願番号: PCT/JP2017/035595
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G01L 1/22 (2006.01) ,G01L 5/00 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
L
力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定
1
力または応力の測定一般
20
固体物質または導電性流体のオーム抵抗変化の測定によるもの;動電セル,すなわち応力の印加によって電圧が誘起または変化する含液セルを利用するもの
22
抵抗ストレンゲージを用いるもの
G 物理学
01
測定;試験
L
力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定
5
特定の目的に適合した,力,例.衝撃によるもの,仕事,機械的動力またはトルクを測定する装置または方法
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
発明者:
南 征志 MINAMI Masashi; JP
向 郁夫 MUKAI Ikuo; JP
吉田 英樹 YOSHIDA Hideki; JP
安部 攻治 ABE Koji; JP
鮎ヶ瀬 友洋 AYUGASE Tomohiro; JP
渡邊 匠 WATANABE Takumi; JP
柳田 真 YANAGIDA Makoto; JP
中村 香澄 NAKAMURA Kasumi; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori; JP
平野 裕之 HIRANO Hiroyuki; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR FORMING PROTECTIVE FILM OF ELECTRODE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM PROTECTEUR D'ÉLECTRODE
(JA) 電極の保護膜の形成方法
要約:
(EN) This method for forming a protective film of an electrode forms a protective film, which covers a part or the whole of an electrode and is composed of a cured product of a photosensitive resin layer, through the following steps: a photosensitive resin layer formation step wherein a photosensitive resin layer is formed on a substrate that comprises an electrode that contains copper with use of a photosensitive resin composition; a light exposure step wherein a first cured product is formed by curing a predetermined portion of the photosensitive resin layer by means of active light irradiation; and an annealing step wherein a second cured product is formed by heating the first cured product. The photosensitive resin composition contains a binder polymer, a photopolymerizable compound and a photopolymerization initiator; at least one of the binder polymer and the photopolymerizable compound has a tricyclodecane skeleton or a tricyclodecene skeleton; and the light exposure step is carried out so that the total exposure light amount of the active light irradiated on the photosensitive resin layer until the first cured product is obtained is 5 to 300 mJ/cm2.
(FR) L'invention concerne un procédé de formation d'un film protecteur d'une électrode qui forme un film protecteur, qui recouvre une partie ou la totalité d'une électrode et qui est composé d'un produit durci d'une couche de résine photosensible, au moyen des étapes suivantes : une étape de formation de couche de résine photosensible dans laquelle une couche de résine photosensible est formée sur un substrat qui comprend une électrode qui contient du cuivre à l'aide d'une composition de résine photosensible ; une étape d'exposition à la lumière dans laquelle un premier produit durci est formé par durcissement d'une partie prédéfinie de la couche de résine photosensible au moyen d'une exposition à une lumière active ; et une étape de recuit dans laquelle un second produit durci est formé par chauffage du premier produit durci. La composition de résine photosensible contient un polymère liant, un composé photopolymérisable et un initiateur de photopolymérisation ; au moins l'un du polymère liant et du composé photopolymérisable a un squelette tricyclodécane ou un squelette tricyclodécène ; et l'étape d'exposition à la lumière est réalisée de telle sorte que la quantité de lumière d'exposition totale de la lumière active émise sur la couche de résine photosensible jusqu'à ce que le premier produit durci soit obtenu soit de 5 à 300 mJ/cm2.
(JA) 電極の保護膜の形成方法は、銅を含む電極を有する基材上に、感光性樹脂組成物を用いて感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層の所定部分を活性光線の照射により硬化させて第一硬化物を形成する露光工程と、上記第一硬化物を加熱して第二硬化物を形成するアニール工程と、を経て、上記電極の一部又は全部を被覆する上記感光性樹脂層の硬化物からなる保護膜を形成する保護膜の形成方法であって、上記感光性樹脂組成物が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有し、上記バインダーポリマー及び上記光重合性化合物の少なくとも一方がトリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有するものであり、上記第一硬化物を得るまでに上記感光性樹脂層に照射された活性光線の総露光量が5~300mJ/cmとなるように上記露光工程を行う。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)