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1. (WO2019064528) 転写型感光性フィルム、保護膜の形成方法、フォースセンサの製造方法及びフォースセンサ
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国際公開番号: WO/2019/064528 国際出願番号: PCT/JP2017/035593
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G01L 1/22 (2006.01) ,G01L 5/00 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
L
力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定
1
力または応力の測定一般
20
固体物質または導電性流体のオーム抵抗変化の測定によるもの;動電セル,すなわち応力の印加によって電圧が誘起または変化する含液セルを利用するもの
22
抵抗ストレンゲージを用いるもの
G 物理学
01
測定;試験
L
力,応力,トルク,仕事,機械的動力,機械的効率,または流体圧力の測定
5
特定の目的に適合した,力,例.衝撃によるもの,仕事,機械的動力またはトルクを測定する装置または方法
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
発明者:
渡邊 匠 WATANABE Takumi; JP
安部 攻治 ABE Koji; JP
鮎ヶ瀬 友洋 AYUGASE Tomohiro; JP
南 征志 MINAMI Masashi; JP
向 郁夫 MUKAI Ikuo; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori; JP
平野 裕之 HIRANO Hiroyuki; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) TRANSFER-TYPE PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING PROTECTIVE FILM, METHOD FOR PRODUCING FORCE SENSOR, AND FORCE SENSOR
(FR) FILM PHOTOSENSIBLE DE TYPE TRANSFERT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM PROTECTEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CAPTEUR DE FORCE, ET CAPTEUR DE FORCE
(JA) 転写型感光性フィルム、保護膜の形成方法、フォースセンサの製造方法及びフォースセンサ
要約:
(EN) A transfer-type photosensitive film which is provided with: a supporting film; and a photosensitive resin layer which is provided on the supporting film and contains a binder polymer, a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated group and a photopolymerization initiator. This transfer-type photosensitive film is configured such that: the binder polymer has an acid value of 110 mgKOH/g or more; and the SP value of the photopolymerizable compound as determined by Fedors' estimation method is 20.5 (MJ/m3)1/2 or more. This transfer-type photosensitive film is used for the formation of a protective film for a substrate that is provided with an electrode containing a copper-nickel alloy.
(FR) L’invention concerne un film photosensible de type transfert étant pourvu : d'un film de support ; et d'une couche de résine photosensible qui est disposée sur le film de support et contient un polymère liant, un composé photopolymérisable ayant un groupe éthyléniquement insaturé et un initiateur de photopolymérisation. Ce film photosensible de type transfert est configuré de telle sorte que : le polymère liant ait une valeur acide de 110 mg de KOH/g ou plus ; et la valeur SP du composé photopolymérisable telle que déterminée par le procédé d'estimation de Fedors soit de 20,5 (MJ/m3)1/2 ou plus. Ce film photosensible de type transfert est utilisé pour la formation d'un film protecteur pour un substrat qui est pourvu d'une électrode contenant un alliage cuivre-nickel.
(JA) 支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた、バインダーポリマー、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含む感光性樹脂層と、を備える、転写型感光性フィルムであって、バインダーポリマーの酸価が110mgKOH/g以上であり、光重合性化合物のFedrosの推算法に基づくSP値が20.5(MJ/m1/2以上であり、銅ニッケル合金を含む電極を備える基材の保護膜の形成に用いられる、転写型感光性フィルム。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)