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1. (WO2019064520) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064520 国際出願番号: PCT/JP2017/035577
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) An electron beam exposure apparatus using a photoelectric element (54i) that produces electrons due to irradiation with light comprises: a light optical system (80i) that has an optical device (84i) capable of supplying a plurality of light beams, and a projection system (86i) located between the optical device and the positioning location of the photoelectric element (54i); an electron optical system that makes electrons into an electron beam and bombards a target therewith, said electrons being produced from the photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam from the light optical system; and an adjustment apparatus that can adjust the location of the optical device.
(FR) La présente invention concerne un appareil d'exposition à un faisceau d'électrons faisant appel à un élément photoélectrique (54i) qui produit des électrons au moyen d'un rayonnement lumineux, comprenant : un système lumineux optique (80i) qui comporte un dispositif optique (84i) pouvant fournir une pluralité de faisceaux lumineux, et un système de projection (86i) situé entre le dispositif optique et l'emplacement de positionnement de l'élément photoélectrique (54i) ; un système optoélectronique qui forme un faisceau d'électrons à partir d'électrons et bombarde une cible à l'aide dudit faisceau d'électrons, lesdits électrons étant produits à partir de l'élément photoélectrique (54i) au moyen du rayonnement d'au moins un faisceau lumineux provenant du système lumineux optique ; et un appareil de réglage qui peut régler l'emplacement du dispositif optique.
(JA) 光の照射により電子を発生する光電素子(54)を用いる電子ビーム露光装置は、複数の光ビームを提供可能な光学デバイス(84)、及び光学デバイスと光電素子(54)の配置位置との間に位置する投影系(86)を有する光光学系(80)と、光光学系からの少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)から発生する電子を電子ビームとしてターゲットに照射する電子光学系と、光学デバイスの位置を調整可能な調整装置と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)