このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019064516) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/064516 国際出願番号: PCT/JP2017/035568
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305
鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) An exposure device (1000) comprises: a light optical system (180i); a housing (19) that has formed, in the interior thereof, a vacuum space (34) in which an electron emission surface of a photoelectric element (54i) is positioned; a frame (17) that supports at least one section of the light optical system; an electron beam optical system (70i) that makes electrons into an electron beam and bombards a target (W) therewith, said electrons being produced from the photoelectric element (54i) due to irradiation with at least one light beam from the light optical system; and an adjustment apparatus that can adjust a relative positional relationship of the housing (19) and the frame (17).
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'exposition (1000) comprenant : un système lumineux optique (180i) ; un boîtier (19) dans lequel est formé un espace sous vide (34) dans lequel une surface d'émission d'électrons d'un élément photoélectrique (54i) est positionnée ; un cadre (17) qui soutient au moins une partie du système lumineux optique ; un système optique à faisceau d'électrons (70i) qui transforme des électrons en un faisceau d'électrons et bombarde une cible (W) à l'aide de ce dernier, lesdits électrons étant produits à partir de l'élément photoélectrique (54i) en raison de l'exposition à au moins un faisceau lumineux provenant du système lumineux optique ; et un appareil de réglage qui peut ajuster une relation de position relative du boîtier (19) et du cadre (17).
(JA) 露光装置(1000)は、光光学系(180)と、光電素子(54)の電子放出面が配置される真空空間(34)が内部に形成される筐体(19)と、光光学系の少なくとも一部を支持するフレーム(17)と、光光学系からの少なくとも1つの光ビームの照射により光電素子(54)から発生する電子を電子ビームとしてターゲット(W)に照射する電子ビーム光学系(70)と、筐体(19)とフレーム(17)との相対的な位置関係を調整可能な調整装置と、を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)