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1. (WO2019064511) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064511 国際出願番号: PCT/JP2017/035556
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06
電子源;電子銃
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305
鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電子ビーム装置及びデバイス製造方法
要約:
(EN) An electron beam apparatus comprises: a light irradiation apparatus (80) that irradiates a photoelectric element (54) with light; and an electron beam optical system (70) that bombards a wafer W with a an electron beam produced from the photoelectric element due to the irradiation with light by the light irradiation apparatus (80), wherein the light irradiation apparatus (80) has an illumination system, an optical device that produces a plurality of light beams using the light from the illumination system, a first deflection part that deflects the light from the illumination system, a second deflection part that deflects a plurality of light beams from a pattern generator, and a projection system that irradiates the photoelectric element with at least one light beam from the second deflection part.
(FR) L'invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant : un appareil d'éclairement lumineux (80) qui éclaire un élément photoélectrique (54) avec de la lumière ; et un système optique à faisceau d'électrons (70) qui bombarde une galette W avec un faisceau d'électrons produit à partir de l'élément photoélectrique en raison de l'éclairement avec de la lumière par l'appareil d'éclairement lumineux (80). L'appareil d'éclairement lumineux (80) comprend un système d'éclairement, un dispositif optique qui produit une pluralité de faisceaux lumineux en utilisant la lumière provenant du système d'éclairement, une première partie de déviation qui dévie la lumière provenant du système d'éclairement, une deuxième partie de déviation qui dévie une pluralité de faisceaux lumineux provenant d'un générateur de motifs, et un système de projection qui éclaire l'élément photoélectrique avec au moins un faisceau lumineux provenant de la deuxième partie de déviation.
(JA) 電子ビーム装置は、光電素子(54)に光を照射する光照射装置(80)と、光照射装置(80)による光の照射によって光電素子から発生する電子ビームをウエハWに照射する電子ビーム光学系(70)と、を備え、光照射装置(80)は、照明系と、照明系からの光で複数の光ビームを発生させる光学デバイスと、照明系からの光を偏向する第1偏向部と、パターンジェネレータからの複数の光ビームを偏向する第2偏向部と、第2偏向部からの少なくとも1つの光ビームを光電素子に照射する投影系と、を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)