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1. (WO2019064508) 電子ビーム装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064508 国際出願番号: PCT/JP2017/035536
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
佐藤 真路 SATO, Shinji; JP
柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi; JP
代理人:
立石 篤司 TATEISHI, Atsuji; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
要約:
(EN) An electron beam apparatus comprises: an optical device (184) that can supply a plurality of optical beams; a condensing member (187) that is positioned such that the plurality of optical beams from a plurality of locations of the optical device (184) are condensed to a first location of a photoelectric element (54); and an electron optical system that makes electrons emitted from the photoelectric element into an electron beam and uses this to bombard a target.
(FR) La présente invention concerne un appareil à faisceau d'électrons comprenant : un dispositif optique (184) qui peut fournir une pluralité de faisceaux optiques ; un élément de condensation (187) qui est positionné de telle sorte que la pluralité de faisceaux optiques provenant d'une pluralité d'emplacements du dispositif optique (184) sont condensés à un premier emplacement d'un élément photoélectrique (54) ; et un système optique d'électrons qui transforme des électrons émis à partir de l'élément photoélectrique en un faisceau d'électrons et l'utilise pour bombarder une cible.
(JA) 電子ビーム装置は、複数の光ビームを提供可能な光学デバイス(184)と、光学デバイス(184)の複数位置からの複数の光ビームが光電素子(54)の第1位置に集光されるように配置された集光部材(187)と、光電素子から放出される電子を電子ビームとしてターゲットに照射する電子光学系と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)