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1. (WO2019064503) 電子ビーム装置、照明光学系、及びデバイス製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064503 国際出願番号: PCT/JP2017/035522
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
西根 達郎 NISHINE Tatsuro; JP
代理人:
山口 孝雄 YAMAGUCHI Takao; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) ELECTRON BEAM DEVICE, ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU D'ÉLECTRONS, SYSTÈME OPTIQUE D'ÉCLAIRAGE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 電子ビーム装置、照明光学系、及びデバイス製造方法
要約:
(EN) The present invention provides an electron beam device capable of minimizing wasted electrons that do not contribute to the processing of a target. The electron beam device, which irradiates a photoelectric element with light and irradiates the target with an electron beam generated by the photoelectric element, comprises: an illumination optical system that illuminates a first surface; a pattern generator that has a plurality of reflective elements arranged on the first surface and generates a plurality of light beams with the light from the illumination optical system; and a projection optical system for projecting the plurality of light beams from the pattern generator onto the photoelectric conversion surface of the photoelectric element. The illumination optical system includes a focusing optical system for converging a first beam emitted from an illumination pupil in a first direction and a second beam emitted from the illumination pupil in a second direction different from the fist direction, the illumination optical system obliquely illuminating the first surface that is arranged with the normal line tilted relative to the optical axis of the illumination optical system. The focusing optical system includes a focal point tuning member that establishes a focal position in the optical axis direction for the first beam different from a focal position in the optical axis direction for the second beam.
(FR) La présente invention concerne un dispositif à faisceau d'électrons permettant de réduire au minimum le nombre d'électrons perdus qui ne contribuent pas au traitement d'une cible. Le dispositif à faisceau d'électrons, qui expose un élément photoélectrique à la lumière et expose la cible à un faisceau d'électrons produit par l'élément photoélectrique, comprend : un système optique d'éclairage qui éclaire une première surface ; un générateur de motifs qui comprend une pluralité d'éléments réfléchissants placés sur la première surface et qui produit une pluralité de faisceaux lumineux à l'aide de la lumière provenant du système optique d'éclairage ; et un système optique de projection permettant de projeter la pluralité de faisceaux lumineux depuis le générateur de motifs sur la surface de conversion photoélectrique de l'élément photoélectrique. Le système optique d'éclairage comprend un système optique de focalisation permettant de faire converger un premier faisceau émis depuis une pupille d'éclairage dans une première direction et un second faisceau émis depuis la pupille d'éclairage dans une seconde direction différente de la première direction, le système optique d'éclairage éclairant obliquement la première surface qui est agencée de sorte que la ligne normale est inclinée par rapport à l'axe optique du système optique d'éclairage. Le système optique de focalisation comprend un élément de réglage de point focal qui établit une position focale dans la direction d'axe optique du premier faisceau différente d'une position focale dans la direction d'axe optique du second faisceau.
(JA) ターゲットの処理に寄与しない無駄電子の発生を極力抑制することが可能な電子ビーム装置を提供する。光電素子に光を照射し、光電素子から発生する電子ビームをターゲットに照射する電子ビーム装置であって、第1面を照明する照明光学系と、第1面に配置された複数の反射素子を有し、照明光学系からの光で複数の光ビームを発生するパターンジェネレータと、パターンジェネレータからの複数の光ビームを光電素子の光電変換面に投影する投影光学系と、を備えている。照明光学系は、照明瞳から第1方向に沿って射出される第1光束と、照明瞳から第1方向と異なる第2方向に沿って射出される第2光束とを集光する集光光学系を含み、照明光学系の光軸に対して法線が傾くように配置された第1面を斜入射照明し、集光光学系は、第1光束の光軸方向の集光位置と、第2光束の光軸方向の集光位置とを異ならせる集光点調整部材を有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)