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1. (WO2019064473) 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064473 国際出願番号: PCT/JP2017/035417
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 29.09.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
中村 謙太 NAKAMURA, Kenta; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION MASK, MANUFACTURING METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DUDIT MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法及び表示装置の製造方法
要約:
(EN) Two divided masks (22a, 22b) adjoin in a second direction of the vapor deposition mask and have an overlap region (OR1) where the divided masks partially overlap each other in plan view, wherein the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in multiple divided masks (22a, 22b) including the overlap region (OR1) is the same as the pitch (P) in the second direction between openings (23a) in each of the multiple divided masks (22a, 22b).
(FR) Deux masques divisés (22a, 22b) se rejoignent dans une seconde direction du masque de dépôt en phase vapeur et comportent une région de chevauchement (OR1) dans laquelle les masques divisés se chevauchent partiellement dans une vue en plan, le pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans de multiples masques divisés (22a, 22b), y compris la région de chevauchement (OR1), est identique au pas (P) dans la seconde direction entre des ouvertures (23a) dans chacun des multiples masques divisés (22a, 22b).
(JA) 蒸着用マスクの第2方向において、互いに隣接する2つのディバイデッドマスク(22a、22b)は、平面視において互いに一部が重なる重なり領域(OR1)を有し、重なり領域(OR1)を含む複数のディバイデッドマスク(22a、22b)における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)は、複数のディバイデッドマスク(22a、22b)各々における開口(23a)間の第2方向におけるピッチ(P)と同じである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)