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1. (WO2019064452) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064452 国際出願番号: PCT/JP2017/035297
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 28.09.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/00 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
56
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
14
エレクトロルミネッセンス材料の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION PARTICLE EMITTING DEVICE, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, VAPOR DEPOSITION FILM PRODUCTION METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ÉMISSION DE PARTICULES DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, APPAREIL DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ PRODUCTION DE FILM DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着膜製造方法
要約:
(EN) A vapor deposition particle emitting device (1) is equipped with a second vapor deposition source (20) and a first vapor deposition source (10) and a third vapor deposition source (30) sandwiching the second vapor deposition source in the Y axis direction. In the first vapor deposition source and the third vapor deposition source, a plurality of nozzles (12, 31) inclined toward the second vapor deposition source are arranged in the X axis direction. In the second vapor deposition source, a plurality of nozzles (23) inclined toward the first vapor deposition source and a plurality of nozzles (22) inclined toward the third vapor deposition source are arranged in the X axis direction.
(FR) Cette invention concerne un dispositif d'émission de particules de dépôt en phase vapeur (1), équipé d'une deuxième source de dépôt en phase vapeur (20) et d'une première source de dépôt en phase vapeur (10) et d'une troisième source de dépôt en phase vapeur (30) prenant en sandwich la deuxième source de dépôt en phase vapeur dans la direction de l'axe Y. Dans la première source de dépôt en phase vapeur et la troisième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (12, 31) inclinées vers la deuxième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X. Dans la deuxième source de dépôt en phase vapeur, une pluralité de buses (23) inclinées vers la première source de dépôt en phase vapeur et une pluralité de buses (22) inclinées vers la troisième source de dépôt en phase vapeur sont agencées dans la direction de l'axe X.
(JA) 蒸着粒子射出装置(1)は、第2蒸着源(20)と、Y軸方向に第2蒸着源を挟む第1蒸着源(10)と第3蒸着源(30)とを備えている。第1蒸着源および第3蒸着源には、第2蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(12・31)がX軸方向に配列されている。第2蒸着源には、第1蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(23)と、第3蒸着源に向かって傾斜する複数のノズル(22)とがX軸方向に配列されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)