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1. (WO2019064439) 表示装置
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国際公開番号: WO/2019/064439 国際出願番号: PCT/JP2017/035255
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 28.09.2017
IPC:
H05B 33/04 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
04
封止装置
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
岡部 達 OKABE Tohru; --
齋田 信介 SAIDA Shinsuke; --
郡司 遼佑 GUNJI Ryosuke; --
谷山 博己 TANIYAMA Hiroki; --
神村 浩治 JINMURA Hiroharu; --
仲田 芳浩 NAKADA Yoshihiro; --
井上 彬 INOUE Akira; --
代理人:
特許業務法人前田特許事務所 MAEDA & PARTNERS; 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番1号 新ダイビル23階 Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示装置
要約:
(EN) In a display area (D) of a display device (50a), an opening (A) is formed in at least one layer of an inorganic insulating film which constitutes a TFT layer (20a) so as to penetrate the inorganic insulating film and expose the upper surface of a resin substrate (10), and a metal layer (18ea) is provided so as to cover the upper surface of the resin substrate (10) exposed from the opening (A) and to cover the peripheral end of the inorganic insulating film in which the opening (A) is formed.
(FR) Dans une zone d'affichage (D) d'un dispositif d'affichage (50a) selon l'invention, une ouverture (A) est formée dans au moins une couche d'un film isolant inorganique qui constitue une couche de transistor à couches minces (TFT) (20a) de manière à pénétrer dans le film isolant inorganique et à faire apparaître la surface supérieure d'un substrat en résine (10), et une couche métallique (18ea) est disposée de manière à recouvrir la surface supérieure du substrat en résine (10) rendue visible par l'ouverture (A) et à recouvrir l'extrémité périphérique du film isolant inorganique dans lequel l'ouverture (A) est formée.
(JA) 表示装置(50a)の表示領域(D)では、TFT層(20a)を構成する少なくとも一層の無機絶縁膜に、無機絶縁膜を貫通して樹脂基板(10)の上面を露出させる開口部(A)が形成され、開口部(A)から露出する樹脂基板(10)の上面、及び開口部(A)が形成された無機絶縁膜の周端部を覆うように金属層(18ea)が設けられている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)