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1. (WO2019064420) 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064420 国際出願番号: PCT/JP2017/035195
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 28.09.2017
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
山渕 浩二 YAMABUCHI, Koji; --
西口 昌男 NISHIGUCHI, Masao; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION MASK AND VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD
(FR) MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE POUR DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法
要約:
(EN) In the present invention, first regions (YA1) in an effective section (YA) formed in a mask sheet (15) are provided for each of active regions (3) of a substrate to be vapor-deposited and have a shape corresponding to each of the active regions (3). Second regions (YA2) of the effective section (YA) are outside the first regions (YA1), and a plurality of vapor deposition holes (H) are shielded by a howling sheet (13).
(FR) Dans la présente invention, des premières régions (YA1) dans une section efficace (YA) formées dans une feuille de masque (15) sont prévues pour chacune des régions actives (3) d'un substrat destiné au dépôt en phase vapeur et ont une forme correspondant à chacune des régions actives (3). Des secondes régions (YA2) de la section efficace (YA) sont à l'extérieur des premières régions (YA1), et une pluralité de trous de dépôt en phase vapeur (H) sont protégés par une feuille sonore (13).
(JA) マスクシート(15)に形成された有効部(YA)のうち第1領域(YA1)は、被蒸着基板のアクティブ領域(3)毎に設けられアクティブ領域(3)に対応する形状であり、有効部(YA)の第2領域(YA2)は、第1領域(YA1)外であって、ハウリングシート(13)により複数の蒸着孔(H)が遮蔽されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)