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1. (WO2019064357) 表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/064357 国際出願番号: PCT/JP2017/034817
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 26.09.2017
IPC:
H05B 33/10 (2006.01) ,G09F 9/30 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/02 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30
必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
04
封止装置
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
松井 章宏 MATSUI Akihiro; --
高橋 純平 TAKAHASHI Jumpei; --
妹尾 亨 SENOO Tohru; --
平瀬 剛 HIRASE Takeshi; --
園田 通 SONODA Tohru; --
越智 貴志 OCHI Takashi; --
越智 久雄 OCHI Hisao; --
代理人:
特許業務法人前田特許事務所 MAEDA & PARTNERS; 大阪府大阪市北区堂島浜1丁目2番1号 新ダイビル23階 Shin-Daibiru Bldg. 23F, 2-1, Dojimahama 1-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300004, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) DISPLAY DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 表示装置の製造方法
要約:
(EN) This organic EL display device (1) production method includes a seal film forming step of forming a seal film (25) in such a manner as to cover an organic EL element (18), the seal film forming step comprising: the step of forming a first inorganic layer (19) in such a manner as to cover the organic EL element (18); the step of forming separation walls (30) above the first inorganic layer (19); the step of coating, within the separation walls (30), an organic material on the surface of the first inorganic layer (19), thereby forming an organic layer (20) on the first inorganic layer (19); the step of removing the separation walls (30); and the step of forming a second inorganic layer (21) above the first inorganic layer (19), in such a manner as to cover the organic layer (20).
(FR) Ce procédé de production de dispositif d'affichage électroluminescent organique (1) comprend une étape de formation de film d'étanchéité consistant à former un film d'étanchéité (25) de manière à recouvrir un élément électroluminescent organique (18), l'étape de formation de film d'étanchéité comprenant : l'étape de formation d'une première couche inorganique (19) de manière à recouvrir l'élément électroluminescent organique (18) ; l'étape de formation de cloisons (30) au-dessus de la première couche inorganique (19) ; l'étape de revêtement, à l'intérieur des cloisons (30), d'un matériau organique sur la surface de la première couche inorganique (19), formant ainsi une couche organique (20) sur la première couche inorganique (19) ; l'étape de retrait des cloisons (30) ; et l'étape de formation d'une seconde couche inorganique (21) au-dessus de la première couche inorganique (19), de manière à recouvrir la couche organique (20).
(JA) 有機EL素子(18)を覆うように封止膜(25)を形成する封止膜形成工程を備える有機EL表示装置(1)の製造方法であって、封止膜形成工程は、有機EL素子(18)を覆うように第1無機層(19)を形成する工程と、第1無機層(19)上に隔壁(30)を形成する工程と、隔壁(30)の内側であって、第1無機層(19)の表面上に有機材料を塗布することにより、第1無機層(19)上に有機層(20)を形成する工程と、隔壁(30)を除去する工程と、第1無機層(19)上に、有機層(20)を覆うように第2無機層(21)を形成する工程とを備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)