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1. (WO2019063468) METHOD AND ASSEMBLY FOR ANALYSING THE WAVEFRONT EFFECT OF AN OPTICAL SYSTEM
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国際公開番号: WO/2019/063468 国際出願番号: PCT/EP2018/075766
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 24.09.2018
IPC:
G01M 11/02 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
M
機械または構造物の静的または動的つり合い試験;他に分類されない構造物または装置の試験
11
光学装置の試験;他に分類されない光学的方法による構造物の試験
02
光学的特性の試験
出願人:
FREIMANN, Rolf [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
発明者:
FREIMANN, Rolf; DE
代理人:
FRANK, Hartmut; DE
優先権情報:
10 2017 217 251.727.09.2017DE
発明の名称: (EN) METHOD AND ASSEMBLY FOR ANALYSING THE WAVEFRONT EFFECT OF AN OPTICAL SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D'ANALYSE DE L'EFFET DE FRONT D'ONDES D'UN SYSTEME OPTIQUE
(DE) VERFAHREN UND ANORDNUNG ZUR ANALYSE DER WELLENFRONTWIRKUNG EINES OPTISCHEN SYSTEMS
要約:
(EN) The invention relates to a method and an assembly for analysing the wavefront effect of an optical system. A method according to the invention has the following steps: exposure of a measuring mask (110, 310) to exposure light by means of an exposure device; creation of an interferogram from a wavefront that originates from the mask and passes through the optical system, on a pre-defined plane by means of a diffraction grating (150); and detection of said interferogram using a detector (170), different angular distributions of the exposure light incident on the measuring mask being generated by means of a mirror assembly consisting of mirror elements that can be adjusted independently of one another and a plurality of interferograms being detected in a plurality of measuring steps, these measuring steps differing from one another with respect to the angular distribution of the exposure light incident on the measuring mask. In order to determine the respective system wavefront deviations of the optical system for each pupil region exposed in the individual measuring steps, a corresponding wavefront deviation component is determined in the measured results obtained in each of these measuring steps.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif d'analyse de l'effet de front d'onde d'un système optique. Un procédé de l'invention comprend les étapes suivantes : éclairer un masque de mesure (110, 310) avec une lumière d'éclairage par un dispositif d'éclairage, générer à partir d'un front d'onde, émanant du masque de mesure et traversant le système optique, un interférogramme dans un plan prédéterminé par le biais d'un réseau de diffraction (150); et détecter cet interférogramme au moyen d'un détecteur (170). Différentes répartitions angulaires de la lumière d'éclairage incidente au masque de mesure sont générées par le biais d'un agencement de miroirs formés d'éléments de miroir pouvant être réglés indépendamment les uns des autres. Une pluralité d'interférogrammes sont détectés en une pluralité d'étapes de mesure. Ces étapes de mesure diffèrent les unes des autres en ce qui concerne la distribution angulaire de la lumière d'éclairage incidente au masque de mesure. Pour déterminer les déviations de front d'onde respectives du système optique pour les zones de pupille éclairées respectivement dans les étapes de mesure individuelles, une composante de déviation de front d'onde correspondante est déterminée dans les résultats de mesure obtenus dans chacune de ces étapes de mesure.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Analyse der Wellenfrontwirkung eines optischen Systems. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Beleuchten einer Messmaske (110, 310) mit Beleuchtungslicht durch eine Beleuchtungseinrichtung, Erzeugen, aus einer von der Messmaske ausgehenden, das optische System durchlaufenden Wellenfront, eines Interferogramms in einer vorgegebenen Ebene über ein Beugungsgitter (150); und Erfassen dieses Interferogramms mit einem Detektor (170), wobei unterschiedliche Winkelverteilungen des auf die Messmaske auftreffenden Beleuchtungslichts über eine Spiegelanordnung aus unabhängig voneinander einstellbaren Spiegelelementen erzeugt werden, wobei eine Mehrzahl von Interferogrammen in einer Mehrzahl von Messschritten erfasst wird, wobei sich diese Messschritte hinsichtlich der Winkelverteilung des auf die Messmaske auftreffenden Beleuchtungslichts voneinander unterscheiden, und wobei zur Ermittlung der jeweiligen Systemwellenfrontabweichungen des optischen Systems für die in den einzelnen Messschritten jeweils beleuchteten Pupillenbereiche ein übereinstimmender Wellenfrontabweichungs-Anteil in den in diesen Messschritten jeweils erhaltenen Messergebnissen ermittelt wird.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: ドイツ語 (DE)
国際出願言語: ドイツ語 (DE)