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1. (WO2019061724) ARRAY SUBSTRATE EMPLOYING BPS TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
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国際公開番号: WO/2019/061724 国際出願番号: PCT/CN2017/110979
国際公開日: 04.04.2019 国際出願日: 15.11.2017
IPC:
G02F 1/1339 (2006.01) ,G02F 1/1362 (2006.01) ,G02F 1/1368 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1339
ガスケット;スペーサ;セルの封止
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
1368
スイッチング素子が三端子の素子であるもの
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1335
セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ
出願人:
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO.,LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳 光明新区公明街道塘明大道9-2号 No.9-2,Tangming Road,Gongming Street,Guangming new district Shenzhen, Guangdong 518132, CN
発明者:
于承忠 YU, Chengzhong; CN
代理人:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E Shenkan Building, Shangbu Zhong Road, Futian District Shenzhen, Guangdong 518028, CN
優先権情報:
201710884327.326.09.2017CN
発明の名称: (EN) ARRAY SUBSTRATE EMPLOYING BPS TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) SUBSTRAT DE RÉSEAU UTILISANT LA TECHNOLOGIE BPS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(ZH) BPS型阵列基板及其制作方法
要約:
(EN) An array substrate employing BPS technology and a manufacturing method thereof. The manufacturing method of an array substrate employing BPS technology involves provision of a black matrix (83), a main photo spacer (81) and a sub photo spacer (82) at an array substrate in the same manufacturing process, such that production time and production costs can be reduced, thereby increasing product competitiveness. A thickness of a color resist unit (41) is employed to realize a height difference between the main photo spacer (81) and the black matrix (83). The thickness of the color resist unit (41) is also employed, in combination with control of optical transmittance of a mask, to realize a height difference between the sub photo spacer (82) and the black matrix (83), such that heights of the main photo spacer (81) and the sub photo spacer (82) can be controlled easily. Since a region of a black light-shielding film (60) at which the black matrix (83) is correspondingly formed corresponds to a fully transparent region (72) of a mask plate in an exposure process and is exposed to an adequate dose of ultraviolet radiation during exposure, a BPS material undergoes a thorough cross-linking reaction, has high stability, and is less affected by a developing solution in a developing process, such that the BPS material is not dissolved, thereby ensuring a uniform film thickness of the black matrix (83).
(FR) L'invention a trait à un substrat de réseau utilisant la technologie BPS, et à un procédé de fabrication associé. Le procédé de fabrication d'un substrat de réseau utilisant la technologie BPS consiste à utiliser une matrice noire (83), une entretoise photographique principale (81) et une entretoise photographique secondaire (82) à l'emplacement d'un substrat de réseau au cours du même processus de fabrication, de telle sorte que le temps de production et les coûts de production puissent être réduits, ce qui permet d'accroître la compétitivité du produit. L'épaisseur d'une unité de réserve de couleur (41) est utilisée pour réaliser une différence de hauteur entre l'entretoise photographique principale (81) et la matrice noire (83). L'épaisseur de l'unité de réserve de couleur (41) est également utilisée, en association avec le réglage de la transmittance optique d'un masque, pour réaliser une différence de hauteur entre ladite entretoise photographique secondaire (82) et ladite matrice noire (83), de telle sorte que les hauteurs de l'entretoise photographique principale (81) et de cette entretoise photographique secondaire (82) puissent être facilement réglées. Puisqu'une région d'un film noir de protection contre la lumière (60) à l'emplacement duquel la matrice noire (83) est formée de manière correspondante correspond à une région entièrement transparente (72) d'une plaque de masque lors d'un processus d'exposition et qu'elle est exposée à une dose appropriée de rayonnement ultraviolet pendant l'exposition, un matériau BPS subit une réaction de réticulation approfondie, présente une stabilité élevée, et est moins altéré par une solution de développement au cours d'un processus de développement, de telle sorte que le matériau BPS ne soit pas dissout, ce qui garantit une épaisseur de film constante de la matrice noire (83).
(ZH) 一种BPS型阵列基板及其制作方法。BPS型阵列基板的制作方法将黑色矩阵(83)、主隔垫物(81)、副隔垫物(82)均设于阵列基板上并在同一制程中实现,能够缩减生产时间,降低生产成本,提高产品竞争力;利用色阻单元(41)的厚度来实现主隔垫物(81)与黑色矩阵(83)的高度差,同时利用色阻单元(41)的厚度并通过控制掩膜板的透光率来实现副隔垫物(82)与黑色矩阵(83)的高度差,使主隔垫物(81)与副隔垫物(82)的高度更易于控制;黑色遮光膜层(60)上对应形成黑色矩阵(83)的区域在曝光过程中对应的掩膜板区域为全透光区(72),曝光时受到的紫外线照射剂量充足,交联反应完全,因而稳定性较高,在显影过程中受到显影液的影响较小,不会被溶解,从而保证黑色矩阵(83)的膜厚均匀性较好。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)