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1. (WO2019059420) パターン露光方法及びパターン露光装置
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国際公開番号: WO/2019/059420 国際出願番号: PCT/JP2018/037102
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 03.10.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
発明者:
杉本 重人 SUGIMOTO Shigeto; JP
代理人:
特許業務法人 英知国際特許事務所 EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 東京都文京区千石4丁目45番13号 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011, JP
優先権情報:
2017-18041520.09.2017JP
発明の名称: (EN) PATTERN EXPOSURE METHOD AND PATTERN EXPOSURE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE MOTIFS ET DISPOSITIF D'EXPOSITION DE MOTIFS
(JA) パターン露光方法及びパターン露光装置
要約:
(EN) The present invention accurately forms a micro-scale pattern by suppressing edge errors at flat corner portions in the exposure image data for maskless exposure. The minimum exposure units of a light beam are plotted upon an exposure surface, and the on region of the light beam that will be necessary in correction of the exposure image data is specified as a set of minimum exposure units. The light beam intensity distribution of each minimum exposure unit within the on region is acquired, and the distributions are cumulated to obtain the accumulated intensity distribution of the on region. The accumulated intensity distribution is compared to a set threshold, and a profile connecting, upon the exposure surface, points where the accumulated intensity distribution matches the threshold is obtained as an accumulated intensity profile (AIP). In order to reduce the difference area enclosed between the outer edge of the on region and the AIP, an on unit at which the light beam is turned on is set with respect to each minimum exposure unit on the outer side of the on region, and the exposure image data is corrected therewith.
(FR) La présente invention forme avec précision un motif à l'échelle micrométrique en supprimant des erreurs de bord au niveau de parties de coin plates dans les données d'image d'exposition pour une exposition sans masque. Les unités d'exposition minimale d'un faisceau lumineux sont tracées sur une surface d'exposition, et la région d'activation du faisceau lumineux qui sera nécessaire à la correction des données d'image d'exposition est spécifiée en tant qu'ensemble d'unités d'exposition minimale. La distribution de l'intensité de faisceau lumineux de chaque unité d'exposition minimale à l'intérieur de la région d'activation est acquise, et les distributions sont cumulées pour obtenir la distribution de l'intensité accumulée de la région d'activation. La distribution d'intensité accumulée est comparée à un seuil défini, et un profil reliant, sur la surface d'exposition, les points où la distribution d'intensité accumulée correspond au seuil est obtenu sous la forme d'un profil d'intensité accumulée (AIP). Afin de réduire la zone de différence contenue entre le bord extérieur de la région d'activation et l'AIP, une unité d'activation au niveau de laquelle le faisceau lumineux est allumé est réglé par rapport à chaque unité d'exposition minimale sur le côté extérieur de la région d'activation, et les données d'image d'exposition sont corrigées à l'aide de celle-ci.
(JA) マスクレス露光の露光画像データにおける平面的な角部におけるエッジ誤差を抑止することで、微細化されたパターンを精度良く形成する。露光面上に光ビームの最小露光単位を区画し、露光画像データにおける補正に必要な光ビームのオン領域を最小露光単位の集合で特定し、光ビームの強度分布をオン領域内の最小露光単位毎に積算し、オン領域における積算強度分布を求め、積算強度分布を設定された閾値と比較して、積算強度分布が閾値と一致する点を露光面上で連ねた輪郭を積算強度輪郭(AIP)として求め、オン領域の外縁とAIPとで囲まれた差分面積が小さくなるように、オン領域の外側に最小露光単位毎に光ビームをオンにするオン単位を設定して、露光画像データを補正する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)