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1. (WO2019059315) 露光用照明装置、露光装置及び露光方法
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国際公開番号: WO/2019/059315 国際出願番号: PCT/JP2018/034920
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 20.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 3/00 (2006.01) ,G02B 19/00 (2006.01) ,G03F 7/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
3
単レンズまたは複合レンズ
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
19
コンデンサー
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
22
同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの
出願人:
株式会社ブイ・テクノロジー V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番地 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005, JP
発明者:
榎本 芳幸 ENOMOTO Yoshiyuki; JP
川島 洋徳 KAWASHIMA Hironori; JP
代理人:
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2017-18280322.09.2017JP
発明の名称: (EN) LIGHTING DEVICE FOR EXPOSURE, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE POUR EXPOSITION, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光用照明装置、露光装置及び露光方法
要約:
(EN) An integrator unit (90) is provided with two fly-eye lenses (91, 92), and a fly-eye lens distance adjustment mechanism (95) changes a distance (d) in an optical axis direction between the two fly-eye lenses (91, 92). The distance (d) in the optical axis direction between the two fly-eye lenses (91, 92) is changed in response to a shape change in a reflection surface of a plane mirror (68) by a mirror bending mechanism (70), thereby correcting a change in average illuminance value on an exposure surface due to mirror bending. The present invention provides a lighting device for exposure, an exposure apparatus and an exposure method which make it possible to suppress variations in takt time by correcting a change in average illuminance value on an exposure surface due to mirror bending.
(FR) Selon l'invention, une unité d'intégrateur (90) comprend deux lentilles à facettes (91, 92), et un mécanisme de réglage de distance de lentille à facettes (95) change une distance (d) dans une direction d'axe optique entre les deux lentilles à facettes (91, 92). La distance (d) dans la direction de l'axe optique entre les deux lentilles à facettes (91, 92) est modifiée en réponse à un changement de forme dans une surface de réflexion d'un miroir plan (68) par un mécanisme de courbure de miroir (70), ce qui permet de corriger un changement de valeur d'éclairement moyen sur une surface d'exposition en raison d'une courbure de miroir. La présente invention concerne un dispositif d'éclairage pour exposition, un appareil d'exposition et un procédé d'exposition qui permettent de supprimer les variations de temps takt en corrigeant un changement de valeur d'éclairement moyen sur une surface d'exposition en raison d'une courbure de miroir.
(JA) インテグレータ部(90)は、2枚のフライアイレンズ(91,92)を備え、フライアイレンズ間隔調整機構(95)が2枚のフライアイレンズ(91,92)の光軸方向の間隔(d)を変更する。2枚のフライアイレンズ(91,92)の光軸方向の間隔(d)は、ミラー曲げ機構(70)による平面ミラー(68)の反射面の形状変更に応じて変更され、ミラー曲げによる露光面での平均照度値の変化を補正する。ミラー曲げに起因する露光面での平均照度値の変化を補正することで、タクトタイムのばらつきを抑制することができる露光用照明装置、露光装置及び露光方法を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)