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1. (WO2019059043) バルブ装置、流量調整方法、流体制御装置、流量制御方法、半導体製造装置および半導体製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/059043 国際出願番号: PCT/JP2018/033596
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 11.09.2018
IPC:
F16K 31/02 (2006.01) ,F16K 31/122 (2006.01) ,F16K 37/00 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/31 (2006.01) ,F16K 7/12 (2006.01)
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K
弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
31
操作手段;釈放装置
02
電気;磁気
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K
弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
31
操作手段;釈放装置
12
流体により作動されるもの
122
流体がピストンに作用するもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K
弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
37
弁または他の締め切り装置の内部または外部にあって,その操作を指示または記録し,警報を与えることができる特別な手段
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K
弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
7
ダイヤフラム締め切り装置,例.流路を閉鎖するために,全部は動かないが,変形される部材をもつもの
12
平担,皿状,わん状,のダイヤフラム
出願人:
株式会社フジキン FUJIKIN INCORPORATED [JP/JP]; 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号 3-2, Itachibori 2-chome, Nishi-ku, Osaka-city Osaka 5500012, JP
発明者:
近藤 研太 KONDO Kenta; JP
吉田 俊英 YOSHIDA Toshihide; JP
相川 献治 AIKAWA Kenji; JP
佐藤 秀信 SATO Hidenobu; JP
中田 知宏 NAKATA Tomohiro; JP
篠原 努 SHINOHARA Tsutomu; JP
滝本 昌彦 TAKIMOTO Masahiko; JP
代理人:
藤本 健司 FUJIMOTO Kenji; JP
優先権情報:
2017-18363825.09.2017JP
発明の名称: (EN) VALVE DEVICE, FLOW ADJUSTMENT METHOD, FLUID CONTROL DEVICE, FLOW CONTROL METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE SOUPAPE, PROCÉDÉ DE RÉGLAGE D'ÉCOULEMENT, DISPOSITIF DE COMMANDE DE FLUIDE, PROCÉDÉ DE RÉGULATION D'ÉCOULEMENT, DISPOSITIF DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR
(JA) バルブ装置、流量調整方法、流体制御装置、流量制御方法、半導体製造装置および半導体製造方法
要約:
(EN) A valve device is provided which can precisely adjust flow variation over time and with aging, without using external sensors. This valve device is provided with an adjustment actuator (100) which utilizes a piezoelectric element for adjusting the position of an operation member positioned in an open position. A drive circuit (200) of the adjustment actuator (100) comprises a detection unit (210) which detects an electric signal relating to the amount of strain generated in the piezoelectric element, and a control unit (210) which, on the basis of the electric signal relating to the amount of strain in the piezoelectric element, controls the adjustment actuator (100) such that the degree of opening of the flow path by a valve body is a target opening amount.
(FR) Dispositif de soupape qui peut régler avec précision une variation d'écoulement dans le temps et avec le vieillissement, sans utiliser de capteurs externes. Ce dispositif de soupape est pourvu d'un actionneur de réglage (100) qui utilise un élément piézoélectrique pour régler la position d'un élément d'actionnement positionné dans une position ouverte. Un circuit d'entraînement (200) de l'actionneur de réglage (100) comprend une unité de détection (210) qui détecte un signal électrique relatif à la quantité de contrainte générée dans l'élément piézoélectrique, et une unité de commande (210) qui, sur la base du signal électrique relatif à la quantité de contrainte dans l'élément piézoélectrique, commande l'actionneur de réglage (100) de telle sorte que le degré d'ouverture du chemin d'écoulement par un corps de soupape est une quantité d'ouverture cible.
(JA) 外部センサを用いることなく、経時、経年等による流量変動を精密に調整可能なバルブ装置を提供する。 開位置に位置付けられた操作部材の位置を調整するための圧電素子を利用した調整用アクチュエータ(100)を有し、調整用アクチュエータ(100)の駆動回路(200)は、圧電素子に生じるひずみ量に係わる電気信号を検出する検出部(210)と、圧電素子のひずみ量に係わる電気信号に基づいて、弁体による流路の開度が目標開度になるように調整用アクチュエータ(100)を制御する制御部(210)とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)