ご意見送信
設定

設定

出願の表示

1. WO2019059040 - バルブ装置、調整情報生成方法、流量調整方法、流体制御装置、流量制御方法、半導体製造装置および半導体製造方法

パーマリンク
公開番号 WO/2019/059040
公開日 28.03.2019
国際出願番号 PCT/JP2018/033583
国際出願日 11.09.2018
IPC
F16K 31/122 2006.1
F機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
31操作手段;釈放装置
12流体により作動されるもの
122流体がピストンに作用するもの
H01L 21/02 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
H01L 21/31 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
F16K 7/12 2006.1
F機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
7ダイヤフラム締め切り装置,例.流路を閉鎖するために,全部は動かないが,変形される部材をもつもの
12平担,皿状,わん状,のダイヤフラム
F16K 31/02 2006.1
F機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
K弁;栓;コック;作動のフロート;排気または吸気装置
31操作手段;釈放装置
02電気;磁気
CPC
C23C 16/45544
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45523Pulsed gas flow or change of composition over time
45525Atomic layer deposition [ALD]
45544characterized by the apparatus
C23C 16/52
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
52Controlling or regulating the coating process
F16K 31/007
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
31Actuating devices;; Operating means; Releasing devices
004actuated by piezo-electric means
007Piezo-electric stacks
F16K 31/047
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
31Actuating devices;; Operating means; Releasing devices
02electric
04using a motor
047characterised by mechanical means between the motor and the valve, e.g. lost motion means reducing backlash, clutches, brakes or return means
F16K 31/122
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
31Actuating devices;; Operating means; Releasing devices
12actuated by fluid
122the fluid acting on a piston
F16K 31/48
FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
31Actuating devices;; Operating means; Releasing devices
44Mechanical actuating means
48actuated by mechanical timing-device, e.g. with dash-pot
出願人
  • 株式会社フジキン FUJIKIN INCORPORATED [JP]/[JP]
発明者
  • 近藤　研太 KONDO Kenta
  • 吉田　俊英 YOSHIDA Toshihide
  • 佐藤　秀信 SATO Hidenobu
  • 中田　知宏 NAKATA Tomohiro
  • 篠原　努 SHINOHARA Tsutomu
  • 滝本　昌彦 TAKIMOTO Masahiko
代理人
  • 藤本　健司 FUJIMOTO Kenji
優先権情報
2017-18355625.09.2017JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VALVE DEVICE, ADJUSTMENT INFORMATION GENERATING METHOD, FLOW ADJUSTMENT METHOD, FLUID CONTROL DEVICE, FLOW CONTROL METHOD, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF SOUPAPE DE VANNE, PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION D'INFORMATIONS DE RÉGLAGE, PROCÉDÉ DE RÉGLAGE DE DÉBIT, DISPOSITIF DE RÉGULATION DE FLUIDE, PROCÉDÉ DE RÉGULATION DE FLUX, DISPOSITIF DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR
(JA) バルブ装置、調整情報生成方法、流量調整方法、流体制御装置、流量制御方法、半導体製造装置および半導体製造方法
front page image
要約
(EN) A valve device is provided which can precisely adjust flow variation over time and with aging, without using external sensors, or using as few external sensors as possible. This valve device is provided with an adjustment actuator (100) for adjusting the position of an operation member positioned in an open position, a communication unit (210) which receives, from outside of the device, adjustment information relating to adjustment of the degree of opening of the flow path by a valve body, and a control unit (220) which, on the basis of the adjustment information, drives the adjustment actuator (100) to adjust the position of the operation member.
(FR) L'invention concerne un dispositif soupape qui peut régler avec précision une variation de débit dans le temps et avec le vieillissement, sans utiliser de capteurs externes, ou en utilisant un minimum de capteurs externes possible. Ce dispositif soupape comprend : un actionneur de réglage (100) pour régler la position d'un élément d'actionnement placé en position ouverte; une unité de communication (210) qui reçoit, de l'extérieur du dispositif, des informations de réglage concernant le réglage du degré d'ouverture du circuit d'écoulement par un corps de soupape; et une unité de commande (220) qui, sur la base des informations de réglage, commande l'actionneur de réglage (100) pour ajuster la position de l'élément d'actionnement.
(JA) 外部センサを用いることなく、あるいは、可能な限り少数の外部センサを用いて、経時、経年等による流量変動を精密に調整可能なバルブ装置を提供する。　開位置に位置付けられた操作部材の位置を調整するための調整用アクチュエータ（１００）と、弁体による流路の開度調整に係る調整情報を装置外部から受信する通信部（２１０）と、この調整情報に基づいて調整用アクチュエータ（１００）を駆動し操作部材の位置を調整する制御部（２２０）とを有する。
関連特許文献
KR1020200030538
CN111164341
JPWO2019059040
US20200278234
国際事務局に記録されている最新の書誌情報
# -