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1. (WO2019059011) 教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置
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国際公開番号: WO/2019/059011 国際出願番号: PCT/JP2018/033341
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 10.09.2018
IPC:
G01N 21/88 (2006.01) ,G01N 23/04 (2018.01) ,G01N 23/18 (2018.01) ,G06N 99/00 (2010.01) ,G06T 7/00 (2017.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
02
放射線の材料透過によるもの
04
映像形成
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
02
放射線の材料透過によるもの
06
吸収の測定
08
電気的検出手段の利用
18
きずまたは介在物の存在の調査
G 物理学
06
計算;計数
N
特定の計算モデルに基づくコンピュータ・システム
99
このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項
G 物理学
06
計算;計数
T
イメージデータ処理または発生一般
7
イメージ分析,例.ビットマップから非ビットマップへ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
金子 康彦 KANEKO, Yasuhiko; JP
代理人:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
優先権情報:
2017-17937719.09.2017JP
発明の名称: (EN) TRAINING DATA CREATION METHOD AND DEVICE, AND DEFECT INSPECTING METHOD AND DEVICE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE CRÉATION DE DONNÉES D'APPRENTISSAGE, ET DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE DÉFAUTS
(JA) 教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置
要約:
(EN) Provided are a training data creation method and device, and a defect inspecting method and device with which defect inspection accuracy can be ensured even if the number of defect samples used to create the training data is small. This training data creation method includes the steps of: acquiring a training image including a received light image created on the basis of reflected light or transmitted light from an object under inspection, obtained by radiating a light beam or radiation at the object under inspection, which has a defect; subjecting the training image to a frequency distribution analysis; accepting input of a parameter for specifying a frequency band; selecting a frequency band signal from an analysis result of the frequency distribution analysis, in accordance with the frequency band specified by the parameter; acquiring defect information indicating the defect, for an image corresponding to the frequency band signal; and, on the basis of the defect information, creating training data for use in learning by a defect inspecting device for inspecting defects in the object under inspection.
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif de création de données d'apprentissage, et un procédé et un dispositif de détection de défauts permettant d'assurer une précision de détection de défauts même lorsque le nombre d'échantillons défectueux utilisés pour créer les données d'apprentissage est faible. Le procédé de création de données d'apprentissage selon l'invention consiste : à acquérir une image d'apprentissage contenant une image lumineuse reçue créée en fonction d'une lumière réfléchie ou d'une lumière transmise par un objet en cours d'inspection, obtenue par rayonnement d'un faisceau lumineux ou d'un rayonnement au niveau de l'objet en cours d'inspection qui présente un défaut ; à soumettre l'image d'apprentissage à une analyse de distribution de fréquences ; à accepter une entrée d'un paramètre destiné à déterminer une bande de fréquences ; à sélectionner un signal de bande de fréquences à partir d'un résultat de l'analyse de distribution de fréquences, en fonction de la bande de fréquences déterminée par le paramètre ; à acquérir des informations de défaut indiquant le défaut, pour une image correspondant au signal de bande de fréquences ; et à créer, en fonction des informations de défaut, des données d'apprentissage destinées à être utilisées dans l'apprentissage par un dispositif de détection de défauts destiné à détecter des défauts dans l'objet en cours d'inspection.
(JA) 教師データの作成に使用する欠陥のサンプルの数が少ない場合であっても、欠陥検査の精度を確保することが可能な教師データ作成方法及び装置並びに欠陥検査方法及び装置を提供する。教師データ作成方法は、欠陥を有する被検査体に光線又は放射線を照射することにより得られた前記被検査体からの反射光又は透過光に基づいて作成された受光画像を含むトレーニング用画像を取得し、前記トレーニング用画像に対して周波数分布解析を実行し、周波数帯域を指定するためのパラメータの入力を受け付け、前記パラメータにより指定された前記周波数帯域に従って、前記周波数分布解析の解析結果から周波数帯域信号を選択し、前記周波数帯域信号に対応する画像に対して、欠陥を示す欠陥情報を取得し、前記欠陥情報に基づいて、前記被検査体の欠陥を検査するための欠陥検査装置の学習に使用される教師データを作成する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)