(EN) The purpose of the present invention is to provide a plasma treatment device which performs uniform plasma treatment on a liquid. This plasma treatment device (100) comprises: a coaxial waveguide comprising an inner conductor (110), a first outer conductor (120) and a second outer conductor (130); a microwave generation unit (150); an outside tube (140) which is positioned outside of the first outer conductor (120) and the second outer conductor (130), and which, together with the first outer conductor (120) and the second outer conductor (130), forms a flow path (LP1) for circulating a liquid; and a plasma generation region (PG1). A first protrusion (121) of the first outer conductor (120) and a second protrusion (131) of the second outer conductor (130) are opposite of each other in a non-contacting state. The plasma generation region (PG1) is a region along where the first protrusion (121) of the first outer conductor (120) and the second protrusion (131) of the second outer conductor (130) are opposite of each other.
(FR) La présente invention a pour objet de fournir un dispositif de traitement par plasma qui effectue un traitement par plasma uniforme sur un liquide. Ledit dispositif de traitement par plasma (100) comprend : un guide d'ondes coaxial comprenant un conducteur interne (110), un premier conducteur externe (120) et un second conducteur externe (130) ; une unité de génération de micro-ondes (150) ; un tube extérieur (140) qui est positionné à l'extérieur du premier conducteur externe (120) et du second conducteur externe (130), et lequel, conjointement avec le premier conducteur externe (120) et le second conducteur externe (130), forme un trajet de circulation (LP1) permettant de faire circuler un liquide ; et une région de génération de plasma (PG1). Une première saillie (121) du premier conducteur externe (120) et une seconde saillie (131) du second conducteur externe (130) sont opposées l'une à l'autre dans un état sans contact. La région de génération de plasma (PG1) est une région le long de laquelle la première saillie (121) du premier conducteur externe (120) et la seconde saillie (131) du second conducteur externe sont opposées l'une à l'autre.
(JA) 本技術の目的は、液体に均一なプラズマ処理を実施することを図ったプラズマ処理装置を提供することである。プラズマ処理装置(100)は、内導体(110)と第1の外導体(120)と第2の外導体(130)とを備える同軸導波管と、マイクロ波発生部(150)と、第1の外導体(120)および第2の外導体(130)の外側に位置するとともに第1の外導体(120)および第2の外導体(130)とともに液体を流すための流路(LP1)を形成する外部管(140)と、プラズマ発生領域(PG1)と、を有する。第1の外導体(120)の第1の凸部(121)と第2の外導体(130)の第2の凸部(131)とは、非接触状態で対面している。プラズマ発生領域(PG1)は、第1の外導体(120)の第1の凸部(121)と第2の外導体(130)の第2の凸部(131)との対面箇所に沿う領域である。