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1. (WO2019058856) プラズマ処理装置
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国際公開番号: WO/2019/058856 国際出願番号: PCT/JP2018/031005
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 22.08.2018
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,B01J 19/08 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
19
化学的,物理的,または物理化学的プロセス一般;それらに関連した装置
08
電気または波動エネルギーあるいは粒子線放射を直接適用したプロセス;そのための装置
H 電気
05
他に分類されない電気技術
H
プラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1
プラズマの生成;プラズマの取扱い
24
プラズマの発生
46
電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人:
住友理工株式会社 SUMITOMO RIKO COMPANY LIMITED [JP/JP]; 愛知県小牧市東三丁目1番地 1, Higashi 3-chome, Komaki-shi, Aichi 4858550, JP
国立大学法人名古屋大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION NAGOYA UNIVERSITY [JP/JP]; 愛知県名古屋市千種区不老町1番 1, Furo-cho, Chikusa-ku, Nagoya-shi, Aichi 4648601, JP
発明者:
笹井 建典 SASAI Kensuke; JP
豊田 浩孝 TOYODA Hirotaka; JP
代理人:
藤谷 修 FUJITANI Osamu; JP
一色 昭則 ISSHIKI Akinori; JP
角谷 智広 KADOYA Tomohiro; JP
優先権情報:
2017-18012820.09.2017JP
発明の名称: (EN) PLASMA TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a plasma treatment device which performs uniform plasma treatment on a liquid. This plasma treatment device (100) comprises: a coaxial waveguide comprising an inner conductor (110), a first outer conductor (120) and a second outer conductor (130); a microwave generation unit (150); an outside tube (140) which is positioned outside of the first outer conductor (120) and the second outer conductor (130), and which, together with the first outer conductor (120) and the second outer conductor (130), forms a flow path (LP1) for circulating a liquid; and a plasma generation region (PG1). A first protrusion (121) of the first outer conductor (120) and a second protrusion (131) of the second outer conductor (130) are opposite of each other in a non-contacting state. The plasma generation region (PG1) is a region along where the first protrusion (121) of the first outer conductor (120) and the second protrusion (131) of the second outer conductor (130) are opposite of each other.
(FR) La présente invention a pour objet de fournir un dispositif de traitement par plasma qui effectue un traitement par plasma uniforme sur un liquide. Ledit dispositif de traitement par plasma (100) comprend : un guide d'ondes coaxial comprenant un conducteur interne (110), un premier conducteur externe (120) et un second conducteur externe (130) ; une unité de génération de micro-ondes (150) ; un tube extérieur (140) qui est positionné à l'extérieur du premier conducteur externe (120) et du second conducteur externe (130), et lequel, conjointement avec le premier conducteur externe (120) et le second conducteur externe (130), forme un trajet de circulation (LP1) permettant de faire circuler un liquide ; et une région de génération de plasma (PG1). Une première saillie (121) du premier conducteur externe (120) et une seconde saillie (131) du second conducteur externe (130) sont opposées l'une à l'autre dans un état sans contact. La région de génération de plasma (PG1) est une région le long de laquelle la première saillie (121) du premier conducteur externe (120) et la seconde saillie (131) du second conducteur externe sont opposées l'une à l'autre.
(JA) 本技術の目的は、液体に均一なプラズマ処理を実施することを図ったプラズマ処理装置を提供することである。プラズマ処理装置(100)は、内導体(110)と第1の外導体(120)と第2の外導体(130)とを備える同軸導波管と、マイクロ波発生部(150)と、第1の外導体(120)および第2の外導体(130)の外側に位置するとともに第1の外導体(120)および第2の外導体(130)とともに液体を流すための流路(LP1)を形成する外部管(140)と、プラズマ発生領域(PG1)と、を有する。第1の外導体(120)の第1の凸部(121)と第2の外導体(130)の第2の凸部(131)とは、非接触状態で対面している。プラズマ発生領域(PG1)は、第1の外導体(120)の第1の凸部(121)と第2の外導体(130)の第2の凸部(131)との対面箇所に沿う領域である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)