WO2019058820 スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体

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公開番号 WO/2019/058820

公開日 28.03.2019

国際出願番号 PCT/JP2018/030436

国際出願日 16.08.2018

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出願人

ＪＸ金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP]/[JP]

発明者

清水　正義 SHIMIZU,Masayoshi
岩淵　靖幸 IWABUCHI,Yasuyuki
増田　愛美 MASUDA,Manami

代理人

アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL

優先権情報

2017-180830

21.09.2017

公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)

出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)

指定国 (国コード)

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発明の名称

(EN) SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR LAYERED FILM, LAYERED FILM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM

(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM STRATIFIÉ, FILM STRATIFIÉ, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE

(JA) スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体

要約

(EN) This sputtering target contains, as a metal component, Co and one or more metals selected from the group consisting of Cr and Ru, and the molar ratio of the content of the one or more metals selected from the group consisting of Cr and Ru to the content of Co is 1/2 or greater. The sputtering target also contains Nb₂O₅ as a metal oxide component.

(FR) La cible de pulvérisation cathodique de l'invention comprend, en tant que composant métallique, un Co, et au moins une sorte de métal choisie dans un groupe constitué de Cr et Ru. Le rapport molaire de la teneur en métal d'au moins une sorte choisie dans un groupe constitué de Cr et Ru, vis-à-vis de la teneur en Co, est supérieur ou égal à 1/2. En outre, cette cible de pulvérisation cathodique comprend Ｎｂ₂Ｏ₅ en tant que composant d'oxyde métallique.

(JA) この発明のスパッタリングターゲットは、金属成分として、Ｃｏと、Ｃｒ及びＲｕからなる群から選択される一種以上の金属とを含有し、前記Ｃｒ及びＲｕからなる群から選択される一種以上の金属の含有量の、Ｃｏの含有量に対するモル比が１／２以上であり、金属酸化物成分としてＮｂ₂Ｏ₅を含有してなるものである。

C	化学;冶金
23	金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C	金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14	被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22	被覆の方法に特徴のあるもの
34	スパッタリング

C	化学;冶金
23	金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C	金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14	被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06	被覆材料に特徴のあるもの
14	金属質材料,ほう素またはけい素

G	物理学
11	情報記憶
B	記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5	記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62	材料の選択によって特徴づけられる記録担体
64	結合材料をもたない磁性材料のみからなるもの

G	物理学
11	情報記憶
B	記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5	記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84	記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851	スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの

H	電気
01	基本的電気素子
F	磁石;インダクタンス;変成器;それらの磁気特性による材料の選択
41	磁石,インダクタンスまたは変圧器の製造または組立に特に適合した装置または工程;磁気特性により特徴付けられる材料の製造に特に適合した装置または工程
14	基体に磁性膜を適用するためのもの
18	陰極スパッタリングによるもの

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1. WO2019058820 - スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体

B	PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22	CASTING; POWDER METALLURGY
F	WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3	Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
10	Sintering only
105	by using electric current ; other than for infra-red radiant energy; , laser radiation or plasma
1051	by electric discharge

C	CHEMISTRY; METALLURGY
22	METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
C	ALLOYS
1	Making alloys
04	by powder metallurgy
0433	Nickel- or cobalt-based alloys

C	CHEMISTRY; METALLURGY
23	COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
C	COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14	Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
06	characterised by the coating material
0688	Cermets, e.g. mixtures of metal and one or more of carbides, nitrides, oxides or borides

G	PHYSICS
11	INFORMATION STORAGE
B	INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5	Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62	Record carriers characterised by the selection of the material
73	Base layers ; , i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
7368	Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
7369	Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers

H	ELECTRICITY
01	BASIC ELECTRIC ELEMENTS
F	MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
41	Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
14	for applying magnetic films to substrates
18	by cathode sputtering
183	Sputtering targets therefor

H	ELECTRICITY
01	BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J	ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237	Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
32	Processing objects by plasma generation
33	characterised by the type of processing
332	Coating

C	CHEMISTRY; METALLURGY
22	METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
C	ALLOYS
32	Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides whether added as such or formed in situ
001	with only oxides
0015	with only single oxides as main non-metallic constituents
0026	Matrix based on Ni, Co, Cr or alloys thereof; Matrix based on Fe for ODS steels

H	ELECTRICITY
01	BASIC ELECTRIC ELEMENTS
J	ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37	Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32	Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
34	operating with cathodic sputtering
3411	Constructional aspects of the reactor
3414	Targets
3426	Material

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