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1. WO2019058820 - スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体

公開番号 WO/2019/058820
公開日 28.03.2019
国際出願番号 PCT/JP2018/030436
国際出願日 16.08.2018
IPC
C23C 14/34 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
C23C 14/14 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
14金属質材料,ほう素またはけい素
G11B 5/64 2006.1
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
64結合材料をもたない磁性材料のみからなるもの
G11B 5/851 2006.1
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
H01F 41/18 2006.1
H電気
01基本的電気素子
F磁石;インダクタンス;変成器;それらの磁気特性による材料の選択
41磁石,インダクタンスまたは変圧器の製造または組立に特に適合した装置または工程;磁気特性により特徴付けられる材料の製造に特に適合した装置または工程
14基体に磁性膜を適用するためのもの
18陰極スパッタリングによるもの
CPC
B22F 2003/1051
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
10Sintering only
105by using electric current ; other than for infra-red radiant energy; , laser radiation or plasma
1051by electric discharge
B22F 3/105
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
10Sintering only
105by using electric current ; other than for infra-red radiant energy; , laser radiation or plasma
B22F 3/14
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
12Both compacting and sintering
14simultaneously
B22F 3/15
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
3Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; ; Presses and furnaces
12Both compacting and sintering
14simultaneously
15Hot isostatic pressing
C22C 1/0433
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
04by powder metallurgy
0433Nickel- or cobalt-based alloys
C22C 1/05
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
04by powder metallurgy
05Mixtures of metal powder with non-metallic powder
出願人
  • JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 清水 正義 SHIMIZU,Masayoshi
  • 岩淵 靖幸 IWABUCHI,Yasuyuki
  • 増田 愛美 MASUDA,Manami
代理人
  • アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL
優先権情報
2017-18083021.09.2017JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD FOR LAYERED FILM, LAYERED FILM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM STRATIFIÉ, FILM STRATIFIÉ, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体
要約
(EN) This sputtering target contains, as a metal component, Co and one or more metals selected from the group consisting of Cr and Ru, and the molar ratio of the content of the one or more metals selected from the group consisting of Cr and Ru to the content of Co is 1/2 or greater. The sputtering target also contains Nb2O5 as a metal oxide component.
(FR) La cible de pulvérisation cathodique de l'invention comprend, en tant que composant métallique, un Co, et au moins une sorte de métal choisie dans un groupe constitué de Cr et Ru. Le rapport molaire de la teneur en métal d'au moins une sorte choisie dans un groupe constitué de Cr et Ru, vis-à-vis de la teneur en Co, est supérieur ou égal à 1/2. En outre, cette cible de pulvérisation cathodique comprend Nb25 en tant que composant d'oxyde métallique.
(JA) この発明のスパッタリングターゲットは、金属成分として、Coと、Cr及びRuからなる群から選択される一種以上の金属とを含有し、前記Cr及びRuからなる群から選択される一種以上の金属の含有量の、Coの含有量に対するモル比が1/2以上であり、金属酸化物成分としてNb25を含有してなるものである。
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