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1. (WO2019058819) スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体
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国際公開番号: WO/2019/058819 国際出願番号: PCT/JP2018/030435
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 16.08.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/06 (2006.01) ,G11B 5/64 (2006.01) ,G11B 5/851 (2006.01) ,H01F 41/18 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62
材料の選択によって特徴づけられる記録担体
64
結合材料をもたない磁性材料のみからなるもの
G 物理学
11
情報記憶
B
記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5
記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
84
記録担体の製造に特に適合する方法または装置
851
スパッタリングにより磁性層を支持体に形成するもの
H 電気
01
基本的電気素子
F
磁石;インダクタンス;変成器;それらの磁気特性による材料の選択
41
このサブクラスに包含される装置の製造または組立に特に適合した装置または工程
14
基体に磁性膜を適用するためのもの
18
陰極スパッタリングによるもの
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2,Otemachi 1-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
清水 正義 SHIMIZU,Masayoshi; JP
岩淵 靖幸 IWABUCHI,Yasuyuki; JP
増田 愛美 MASUDA,Manami; JP
代理人:
アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL; 東京都港区新橋二丁目6番2号 新橋アイマークビル Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome,Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2017-18082921.09.2017JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING LAMINATED FILM, LAMINATED FILM, AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM STRATIFIÉ, FILM STRATIFIÉ, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUE
(JA) スパッタリングターゲット、積層膜の製造方法、積層膜および、磁気記録媒体
要約:
(EN) This sputtering target contains Co and Pt as metal components, and the molar ratio of the Pt content to the Co content is 5/100 to 45/100. The sputtering target also contains Nb2O5 as a metal oxide component.
(FR) La cible de pulvérisation cathodique de l'invention comprend, en tant que composant métallique, Co et Pt, le rapport molaire de la teneur en Pt par rapport à la teneur en Co, étant compris entre 5/100 et 45/100. En outre, cette cible de pulvérisation cathodique comprend Nb25 en tant que composant d'oxyde métallique.
(JA) この発明のスパッタリングターゲットは、金属成分としてCo及びPtを含有し、Coの含有量に対するPtの含有量のモル比が5/100~45/100であり、金属酸化物成分としてNb25を含有してなるものである。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)