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1. (WO2019058783) 試料支持体
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国際公開番号: WO/2019/058783 国際出願番号: PCT/JP2018/029256
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 03.08.2018
IPC:
G01N 27/62 (2006.01) ,H01J 49/04 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
27
電気的,電気化学的,または磁気的手段の利用による材料の調査または分析
62
ガスのイオン化の調査によるもの;放電の調査によるもの,例.陰極の放射
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
49
粒子分光器または粒子分離管
02
細部
04
分析材料導入取り出しのための装置,例.真空封止;電子光学的またはイオン光学的構成体の外部調節装置
出願人:
浜松ホトニクス株式会社 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558, JP
発明者:
大村 孝幸 OHMURA Takayuki; JP
小谷 政弘 KOTANI Masahiro; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
柴山 健一 SHIBAYAMA Kenichi; JP
優先権情報:
2017-18159921.09.2017JP
発明の名称: (EN) SAMPLE SUPPORT BODY
(FR) CORPS DE MAINTIEN D'ÉCHANTILLON
(JA) 試料支持体
要約:
(EN) A sample support body 1 comprising a substrate 2 and an ionization substrate 3. The ionization substrate 3 has a measurement region R for dropping a sample, on a second surface 3b. A plurality of through-holes 3c that open on to a first surface 3a and the second surface 3b are formed in at least the measurement region R of the ionization substrate 3. A conductive layer 4 is provided in a peripheral section of the through-holes 3c in at least the second surface 3b. A least part of the substrate 2 on the ionization substrate 3 side is formed so as to be capable of moving the sample to the inside of the substrate 2.
(FR) L'invention concerne un corps de maintien d'échantillon (1) comprenant un substrat (2) et un substrat d'ionisation (3). Le substrat d'ionisation (3) possède une zone de mesure (R) permettant de déposer un échantillon sur une seconde surface (3b). Une pluralité de trous traversants (3c) qui s'ouvrent sur une première surface (3a) et sur la seconde surface (3b) sont formés au moins dans la zone de mesure (R) du substrat d'ionisation (3). Une couche conductrice (4) est située dans une section périphérique des trous traversants (3c) au moins dans la seconde surface (3b). Au moins une partie du substrat (2) sur le côté du substrat d'ionisation (3) est formée de manière à pouvoir déplacer l'échantillon vers l'intérieur du substrat (2).
(JA) 試料支持体1は、基板2と、イオン化基板3と、を備える。イオン化基板3は、第2表面3bにおいて試料を滴下するための測定領域Rを有する。イオン化基板3の少なくとも測定領域Rには、第1表面3a及び第2表面3bに開口する複数の貫通孔3cが形成されている。少なくとも第2表面3bにおける貫通孔3cの周縁部には、導電層4が設けられている。基板2のイオン化基板3側の少なくとも一部は、試料を基板2の内側に移動させることが可能なように形成されている。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)