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1. WO2019058782 - 描画データ生成方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

公開番号 WO/2019/058782
公開日 28.03.2019
国際出願番号 PCT/JP2018/029211
国際出願日 03.08.2018
IPC
H01L 21/027 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
G03F 7/20 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
H01J 37/305 2006.1
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
CPC
G03F 1/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
20Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G03F 7/2059
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2051Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
2059using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
G03F 7/70025
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70008Production of exposure light, i.e. light sources
70025by lasers
G03F 7/70483
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
G03F 7/705
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70491Information management and control, including software
705Modelling and simulation from physical phenomena up to complete wafer process or whole workflow in wafer fabrication
出願人
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー NUFLARE TECHNOLOGY, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 安井 健一 YASUI, Kenichi
  • 中山田 憲昭 NAKAYAMADA, Noriaki
代理人
  • 重野剛 SHIGENO, Tsuyoshi
  • 重野 隆之 SHIGENO, Takayuki
優先権情報
2017-18006720.09.2017JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RENDERING DATA GENERATION METHOD, MULTI-CHARGED PARTICLE BEAM RENDERING DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE DONNÉES DE RENDU, DISPOSITIF DE RENDU DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES, DISPOSITIF D'INSPECTION DE MOTIF ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT LISIBLE PAR ORDINATEUR
(JA) 描画データ生成方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
要約
(EN) The present invention generates rendering data, in which a calculation amount in a multi-charged particle beam rendering device and a data amount can be reduced, from designed data in which a figure having a curved line is included. The present embodiment relates to a method for generating rendering data used in the multi-charged particle beam rendering device. In the method, the rendering data is generated by calculating a pair of curved lines, each of which is defined by a plurality of control points, as curved lines that represent a curved line part of the figure that is included in the design data, and by representing positions of a first control point and a second control point that is adjacent in a progressing direction of the curved line among the plurality of control points as a displacement in the progressing direction of the curved line from the first control point and a displacement in a direction that is orthogonal to the progressing direction.
(FR) La présente invention génère des données de rendu, dans lesquelles une quantité de calcul dans un dispositif de rendu de faisceau de particules chargées et une quantité de données peuvent être réduites, à partir de données désignées dans lesquelles une figure ayant une ligne incurvée est incluse. Le présent mode de réalisation se rapporte à un procédé permettant de générer des données de rendu utilisées dans le dispositif de rendu de faisceau de particules chargées. Dans le procédé, les données de rendu sont générées en calculant une paire de lignes incurvées, qui sont chacune définies par une pluralité de points de commande, sous la forme de lignes incurvées qui représentent une partie de ligne incurvée de la figure qui est incluse dans les données de conception, et en représentant des positions d'un premier point de commande et d'un second point de commande qui est adjacent dans une direction de progression de la ligne incurvée parmi la pluralité de points de commande en tant que déplacement dans la direction de progression de la ligne incurvée à partir du premier point de commande et que déplacement dans une direction qui est orthogonale à la direction de progression.
(JA) 曲線を持つ図形が含まれている設計データから、データ量、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制可能な描画データを生成する。本実施形態は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する方法に関する。この方法では、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第1制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第2制御点の位置を、前記第1制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報