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1. (WO2019058772) 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法
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国際公開番号: WO/2019/058772 国際出願番号: PCT/JP2018/028749
国際公開日: 28.03.2019 国際出願日: 31.07.2018
IPC:
G01N 21/956 (2006.01) ,G01B 11/30 (2006.01) ,G06T 1/00 (2006.01) ,G06T 5/00 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
G 物理学
01
測定;試験
B
長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11
光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
30
表面の粗さまたは不規則性測定用
G 物理学
06
計算;計数
T
イメージデータ処理または発生一般
1
汎用イメージデータ処理
G 物理学
06
計算;計数
T
イメージデータ処理または発生一般
5
イメージの強調または復元,例.ビットマップからビットマップへ類似のイメージを作るもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
出願人:
株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1 Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585, JP
発明者:
松尾 友宏 MATSUO, Tomohiro; JP
中川 幸治 NAKAGAWA, Koji; JP
代理人:
福島 祥人 FUKUSHIMA, Yoshito; JP
優先権情報:
2017-17916619.09.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE INSPECTION DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, SUBSTRATE INSPECTION METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ D'INSPECTION DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法
要約:
(EN) In the present invention, actual image data expressing an image of one surface of a substrate is generated. A plurality of unit areas aligned along a first diameter direction of the substrate are set on an image that is based on the actual image data. For each of the plurality of unit areas, the average value of the plurality of pixels composing the unit area is calculated as an average pixel value. The average pixel values of the plurality of unit areas are smoothed. The differences between the average pixel value of a predetermined unit area after smoothing and the average pixel values of each unit area after smoothing are calculated. Image data for display is generated by, for each unit area, adding the difference corresponding to the unit area to each of the pixel values in a band-like area extending from the unit area in parallel to a second diameter direction orthogonal to the first diameter direction.
(FR) Selon la présente invention, des données d'image réelle exprimant une image d'une surface d'un substrat sont générées. Une pluralité de zones unitaires alignées le long d'une première direction de diamètre du substrat sont réglées sur une image qui est basée sur les données d'image réelles. Pour chacune de la pluralité de zones unitaires, la valeur moyenne de la pluralité de pixels composant la zone unitaire est calculée en tant que valeur de pixel moyenne. Les valeurs de pixel moyennes de la pluralité de zones unitaires sont lissées. Les différences entre la valeur de pixel moyenne d'une zone unitaire prédéterminée après lissage et les valeurs de pixel moyennes de chaque zone unitaire après lissage sont calculées. Des données d'image pour affichage sont générées, pour chaque zone unitaire, en ajoutant la différence correspondant à la zone unitaire à chacune des valeurs de pixel dans une zone de type bande s'étendant à partir de la zone unitaire en parallèle à une seconde direction de diamètre orthogonale à la première direction de diamètre.
(JA) 基板の一面の画像を表す実画像データが生成される。実画像データに基づく画像上に基板の第1の直径方向に並ぶ複数の単位領域が設定される。複数の単位領域の各々について当該単位領域を構成する複数の画素の平均的な値が平均的画素値として算出され、複数の単位領域の平均的画素値について平滑化処理が行われる。予め定められた単位領域の平滑化後の平均的画素値と各単位領域の平滑化処理後の平均的画素値との差分が算出される。各単位領域から第1の直径方向に直交する第2の直径方向に平行に延びる帯状領域内の各画素の値に当該単位領域に対応する差分が加算され、表示用画像データが生成される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)