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1. (WO2019050848) BI-STABLE STATIC RANDOM ACCESS MEMORY (SRAM) BIT CELLS FORMED FROM III-V COMPOUNDS AND CONFIGURED TO ACHIEVE HIGHER OPERATING SPEEDS
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国際公開番号: WO/2019/050848 国際出願番号: PCT/US2018/049371
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 04.09.2018
IPC:
H01L 27/108 (2006.01) ,H01L 27/102 (2006.01) ,G11C 11/411 (2006.01) ,H01L 27/11 (2006.01) ,H01L 29/78 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
10
複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
105
電界効果構成部品を含むもの
108
ダイナミックランダムアクセスメモリ構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
10
複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
102
バイポーラ構成部品を含むもの
G 物理学
11
情報記憶
C
静的記憶
11
特定の電気的または磁気的記憶素子の使用によって特徴づけられたデジタル記憶装置;そのための記憶素子
21
電気的素子を用いるもの
34
半導体装置を用いるもの
40
トランジスタを用いるもの
41
正帰還によるセル,すなわちリフレッシングまたは電荷再生を必要としないセルを形成するもの,例.双安定マルチバイブレータまたはシュミットトリガ
411
バイポーラトランジスタのみを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
10
複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
105
電界効果構成部品を含むもの
11
スタティックランダムアクセスメモリ構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29
整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部(31/00~47/00,51/05が優先;半導体本体または電極以外の細部23/00;1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品からなる装置27/00
66
半導体装置の型
68
整流,増幅またはスイッチされる電流を流さない電極に電流のみまたは電位のみを与えることにより制御できるもの
76
ユニポーラ装置
772
電界効果トランジスタ
78
絶縁ゲートによって生じる電界効果を有するもの
出願人:
QUALCOMM INCORPORATED [US/US]; ATTN: International IP Administration 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714, US
発明者:
TAO, Gengming; US
LI, Xia; US
YANG, Bin; US
代理人:
TERRANOVA, Steven, N.; US
優先権情報:
15/696,63006.09.2017US
発明の名称: (EN) BI-STABLE STATIC RANDOM ACCESS MEMORY (SRAM) BIT CELLS FORMED FROM III-V COMPOUNDS AND CONFIGURED TO ACHIEVE HIGHER OPERATING SPEEDS
(FR) CELLULES BINAIRES DE MÉMOIRE VIVE STATIQUE (SRAM) BISTABLES FORMÉES À PARTIR DE COMPOSÉS III-V ET CONFIGURÉES POUR OBTENIR DES VITESSES DE FONCTIONNEMENT PLUS ÉLEVÉES
要約:
(EN) Bi-stable static random access memory (SRAM) bit cells formed from III- V compounds and configured to achieve higher operating speeds are disclosed. In one aspect, a bi-stable SRAM bit cell includes substrate (202), a first well layer (204) formed over substrate from a III- V compound doped with a first type material, and a second well layer (206) formed over the first well layer (204) from a lll-V compound doped with a second type material. A channel layer (208) is formed over the second well layer (206) from a lll-V compound doped with the first type material. Source and drain regions (210, 214) are formed over the channel layer (208) from a lll-V compound doped with the first type material, and a gate region (224) is formed over the channel layer (208). Bipolar junction transistors (BJTs, 228(1) and 228(2)) are formed such that a data value can be stored in second well layer (206). A collector tap electrode (CL) is configured to provide access to collector of each BJT for reading or writing data.
(FR) La présente invention concerne des cellules binaires de mémoire vive statique (SRAM) bistables formées à partir de composés III-V et configurées pour obtenir des vitesses de fonctionnement plus élevées. Selon un aspect, une cellule binaire SRAM bistable comprend un substrat (202), une première couche de puits (204) formée sur un substrat à partir d'un composé III-V dopé avec matériau de premier type, et une seconde couche de puits (206) formée sur la première couche de puits (204) à partir d'un composé III-V dopé avec un matériau de second type. Une couche de canal (208) est formée sur la seconde couche de puits (206) à partir d'un composé III-V dopé avec le matériau de premier type. Des régions de source et de drain (210, 214) sont formées sur la couche de canal (208) à partir d'un composé III-V dopé avec le matériau de premier type, et une région de grille (224) est formée sur la couche de canal (208). Des transistors à jonction bipolaire (BJT, 228 (1) et 228 (2)) sont formés de telle sorte qu'une valeur de données peut être stockée dans la seconde couche de puits (206). Une électrode de prise de collecteur (CL) est configurée pour fournir un accès au collecteur de chaque BJT afin de lire ou écrire des données.
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)