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1. (WO2019050047) フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物
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国際公開番号: WO/2019/050047 国際出願番号: PCT/JP2018/033712
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 11.09.2018
IPC:
C08G 8/10 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
8
アルデヒドまたはケトンのフェノールのみとの重縮合体
04
アルデヒドの
08
ホルムアルデヒドの,例.その場で形成されたホルムアルデヒドの
10
フェノール(石炭酸)との
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
出願人:
明和化成株式会社 MEIWA PLASTIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 山口県宇部市大字小串1988番地の20 1988-20, Oaza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7550067, JP
発明者:
黒岩 貞昭 KUROIWA Sadaaki; JP
代理人:
きさらぎ国際特許業務法人 KISARAGI ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町5番地6 あいおいニッセイ同和損保二番町ビル8階 Aioi Nissay Dowa Sonpo Nibancho Bldg. 8F, 5-6, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
優先権情報:
2017-17440111.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHENOLIC RESIN COMPOSITION FOR PHOTORESISTS AND PHOTORESIST COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHÉNOLIQUE POUR PHOTORÉSERVES ET COMPOSITION DE PHOTORÉSERVE
(JA) フォトレジスト用フェノール樹脂組成物及びフォトレジスト組成物
要約:
(EN) A phenolic resin composition for photoresists, which is characterized by containing a novolac type phenolic resin (A) that is represented by general formula (1) and a novolac type phenolic resin (B) that has at least one of an arylene skeleton and a naphthalene skeleton in the structure in such amounts that the mass ratio of the novolac type phenolic resin (A) to the novolac type phenolic resin (B) is 5-95:95-5. (In general formula (1), each R1 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 (inclusive) carbon atoms, and the plurality of R1 moieties may be the same as or different from each other, provided that at least one of the R1 moieties is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 (inclusive) carbon atoms; each p represents a number of 1 to 3 (inclusive) and the plurality of p's may be the same as or different from each other; each q represents a number of 1 to 3 (inclusive) and the plurality of q's may be the same as or different from each other; p and q satisfy (p + q) ≤ 4; and n represents an integer of 0 or more.)
(FR) L'invention concerne une composition de résine phénolique pour photoréserves, qui est caractérisée en ce qu'elle contient une résine phénolique de type novolaque (A) qui est représentée par la formule générale (1) et une résine phénolique de type novolaque (B) ayant au moins un squelette arylène et/ou un squelette naphtalène dans sa structure, en des quantités telles que le rapport en poids de la résine phénolique de type novolaque (A) à la résine phénolique de type novolaque (B) est de 5-95:95-5. (Dans la formule générale (1), chaque R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 8 (inclus) atomes de carbone, et la pluralité des fragments R1 peuvent être identiques ou différents les uns des autres, à condition qu'au moins l'un des fragments R1 soit un groupe alkyle linéaire ou ramifié ayant de 1 à 8 (inclus) atomes de carbone ; chaque p représente un nombre de 1 à 3 (inclus) et la pluralité des p peuvent être identiques ou différents les uns des autres ;chaque q représente un nombre de 1 à 3 (inclus) et la pluralité des q peuvent être identiques ou différents les uns des autres ; p et q satisfont (p +q) ≤ 4 ; et n représente un nombre entier supérieur ou égal à 0).
(JA) 一般式(1)で示されるノボラック型フェノール樹脂(A)とアリーレン骨格及びナフタレン骨格のうち少なくとも一つを構造中に含むノボラック型フェノール樹脂(B)とを(A)と(B)との質量比が5~95:95~5となる量で含むことを特徴とするフォトレジスト用フェノール樹脂組成物である。  (一般式(1)中、Rは、水素、又は炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基を表し、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、Rの少なくとも一つは炭素数1以上8以下の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基である。pは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。qは、1以上3以下であり、それぞれ同一又は異なっていてもよい。ただし、p+q≦4である。nは、0以上の整数を表す。)
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)