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1. (WO2019049919) フォトマスクブランクス、フォトマスク、露光方法、及び、デバイスの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/049919 国際出願番号: PCT/JP2018/032984
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 06.09.2018
IPC:
G03F 1/58 (2012.01) ,B32B 15/04 (2006.01) ,C03C 15/00 (2006.01) ,C03C 17/36 (2006.01) ,G03F 1/38 (2012.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
54
吸収材,例.不透明な材料
58
2つ以上の異なる吸収材層,例.積層された複数層の吸収材
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
15
本質的に金属からなる積層体
04
層の主なまたは唯一の構成要素が金属からなり,特定物質の他の層に隣接したもの
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17
繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
34
組成の異る少くとも2種の被覆を有するもの
36
少くとも1つの被覆が金属であるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
38
補助的な特徴を有するマスク,例.特別なコーティング又はアライメント若しくは試験のためのマーク;その準備
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
小澤 隆仁 OZAWA, Takashi; JP
寶田 庸平 TAKARADA, Yohei; JP
林 賢利 HAYASHI, Kento; JP
八神 高史 YAGAMI, Takashi; JP
代理人:
永井 冬紀 NAGAI, Fuyuki; JP
白石 直正 SHIRAISHI, Naomasa; JP
優先権情報:
2017-17199707.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, LIGHT EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
(FR) PLAQUE POUR PHOTOMASQUE, PHOTOMASQUE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION À LA LUMIÈRE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN DISPOSITIF
(JA) フォトマスクブランクス、フォトマスク、露光方法、及び、デバイスの製造方法
要約:
(EN) This photomask blank comprises: a substrate; and at least a first layer and a second layer, which are sequentially arranged from the substrate side. The first layer contains chromium; the second layer contains chromium and oxygen; and the surface of the second layer has an arithmetic mean height of 0.245 nm or more.
(FR) L'invention concerne une plaque pour photomasque qui comprend : un substrat ; et au moins une première couche et une seconde couche, qui sont placées successivement à partir du côté substrat. La première couche contient du chrome ; la seconde couche contient du chrome et de l'oxygène ; et la surface de la seconde couche a une hauteur moyenne arithmétique de 0,245 nm ou plus.
(JA) フォトマスクブランクスは、基板と、前記基板側から順に少なくとも第1の層および第2の層を有するフォトマスクブランクスであって、前記第1の層は、クロムを含有し、前記第2の層は、クロムと酸素とを含有し、前記第2の層の表面の算術平均高さが0.245nm以上である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)