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1. (WO2019049795) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/049795 国際出願番号: PCT/JP2018/032434
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 31.08.2018
IPC:
C09D 201/02 (2006.01) ,C07D 317/46 (2006.01) ,C07D 317/54 (2006.01) ,C07D 317/64 (2006.01) ,C07D 405/14 (2006.01) ,C08L 101/06 (2006.01) ,C09D 5/00 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
201
不特定の高分子化合物に基づくコーティング組成物
02
特定の基の存在によって特徴づけられるもの
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
317
異項原子として2個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
08
その異項原子を1,3位にもつもの
44
炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの
46
1個の6員環と縮合したもの
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
317
異項原子として2個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
08
その異項原子を1,3位にもつもの
44
炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの
46
1個の6員環と縮合したもの
48
複素環上が非置換のメチレンジオキシベンゼンまたは水素添加したメチレンジオキシベンゼン
50
炭素環の原子に,水素原子,炭化水素基または置換炭化水素基のみが直接結合したもの
54
酸素原子で置換された基
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
317
異項原子として2個の酸素原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
08
その異項原子を1,3位にもつもの
44
炭素環または環系とオルト―またはペリ―縮合したもの
46
1個の6員環と縮合したもの
48
複素環上が非置換のメチレンジオキシベンゼンまたは水素添加したメチレンジオキシベンゼン
62
異種原子,または異種原子に対する3個の結合をもち,そのうち多くても1個がハロゲンに対する結合である炭素原子,例.エステルまたはニトリル基,が炭素環の原子に直接結合したもの
64
酸素原子
C 化学;冶金
07
有機化学
D
複素環式化合物(高分子化合物C08)
405
異項原子として酸素原子のみをもつ1個以上の複素環と,異項原子として窒素のみをもつ1個以上の環を含有する複素環式化合物
14
3個以上の複素環を含有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
101
不特定の高分子化合物の組成物
02
特定の基の存在に特徴のあるもの
06
酸素原子を含むもの
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
D
コーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
5
物理的性質または生ずる効果によって特徴づけられたコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
中津 大貴 NAKATSU Hiroki; JP
高梨 和憲 TAKANASHI Kazunori; JP
酒井 一憲 SAKAI Kazunori; JP
松村 裕史 MATSUMURA Yuushi; JP
中川 大樹 NAKAGAWA Hiroki; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-17255907.09.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION, FILM, METHOD FOR FORMING FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION, FILM, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT À MOTIFS
(JA) 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法
要約:
(EN) The purpose of the invention is to provide: a composition capable of forming a film exhibiting excellent flatness, wet peeling resistance, and pattern bending resistance while maintaining solvent resistance; a film; a method for forming a film; and a method for producing a patterned substrate. The present invention pertains to a composition containing a solvent and a compound having a group represented by formula (1), having a molecular weight of at least 200, and having a carbon atom content of at least 40 mass%. In formula (1), R1 and R2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a C1-20 monovalent hydrocarbon group or C1-20 monovalent fluorinated hydrocarbon group, or a portion of an alicyclic structure which has 3-20 ring members and in which these groups are combined with each other together with carbon atoms bonded to these groups. Ar1 is a group obtained by removing (n+3) hydrogen atoms from an arene or heteroarene having 6-20 ring members. X is an oxygen atom, -CR3R4-, -CR3R4-O- or -O-CR3R4-.
(FR) L'objectif de l'invention est de fournir : une composition apte à former un film présentant une excellente planéité, une excellente résistance au pelage humide, et une résistance à la flexion de motif tout en maintenant la résistance aux solvants ; un film ; un procédé de formation d'un film ; et un procédé de production d'un substrat à motifs. À cet effet, la présente invention concerne une composition contenant un solvant et un composé ayant un groupe représenté par la formule (1), ayant un poids moléculaire d'au moins 200, et ayant une teneur en atomes de carbone d'au moins 40 % en masse. Dans la formule (1), R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome de fluor, un groupe hydrocarboné monovalent en C1-20 ou un groupe hydrocarboné fluoré monovalent en C1-20, ou une partie d'une structure alicyclique qui possède 3 à 20 éléments cycliques et dans laquelle ces groupes sont combinés les uns aux autres par des atomes de carbone liés à ces groupes. Ar1 est un groupe obtenu par élimination de (n +3) atomes d'hydrogène d'un arène ou d'un hétéroarène ayant 6 à 20 chaînons de cycle. X est un atome d'oxygène, -CR3R4-, -CR3R4-O- ou -O-CR3R4-.
(JA) 溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される基を有し、分子量が200以上であり、炭素原子の含有率が40質量%以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式(1)中、R及びRは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1~20の1価の炭化水素基若しくは炭素数1~20の1価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造の一部である。Arは、環員数6~20のアレーン又はヘテロアレーンから(n+3)個の水素原子を除いた基である。Xは、酸素原子、-CR-、-CR-O-又は-O-CR-である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)