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1. (WO2019049721) 酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材
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国際公開番号: WO/2019/049721 国際出願番号: PCT/JP2018/031689
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 28.08.2018
IPC:
C08G 8/28 (2006.01) ,C08F 20/58 (2006.01) ,C08G 8/30 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
8
アルデヒドまたはケトンのフェノールのみとの重縮合体
28
化学的に変性された重縮合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
52
アミドまたはイミド
54
アミド
58
カルボンアミド酸素以外に酸素を含有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
8
アルデヒドまたはケトンのフェノールのみとの重縮合体
28
化学的に変性された重縮合物
30
不飽和化合物によるもの,例.テルペン
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
出願人:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
発明者:
山田 駿介 YAMADA Shunsuke; JP
亀山 裕史 KAMEYAMA Hirofumi; JP
代理人:
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
優先権情報:
2017-17301708.09.2017JP
発明の名称: (EN) ACID GROUP-CONTAINING (METH)ACRYLATE RESIN, CURABLE RESIN COMPOSITION, RESIN MATERIAL FOR SOLDER RESIST, AND RESIST MEMBER
(FR) RÉSINE (MÉTH)ACRYLATE CONTENANT UN GROUPE ACIDE, COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, MATÉRIAU DE RÉSINE POUR RÉSERVE DE SOUDURE, ET ÉLÉMENT DE RÉSERVE
(JA) 酸基含有(メタ)アクリレート樹脂、硬化性樹脂組成物、ソルダーレジスト用樹脂材料及びレジスト部材
要約:
(EN) The present invention provides an acid group-containing (meth)acrylate resin characterized by containing, as essential reaction raw materials, (A) a phenolic hydroxyl group-containing resin, (B1) a cyclic carbonate compound or (B2) a cyclic ether compound, (C) a N-alkoxyalkyl (meth)acrylamide compound and (D) an acid anhydride. This acid group-containing (meth)acrylate resin exhibits high light sensitivity and excellent alkali developing performance, and can form a cured product having excellent insulation reliability.
(FR) La présente invention concerne une résine (méth)acrylate contenant un groupe acide caractérisée en ce qu’elle contient, comme matières premières réactionnelles essentielles, (A) une résine contenant un groupe hydroxyle phénolique, (B1) un composé carbonate cyclique ou (B2) un composé éther cyclique, (C) un composé de N-alcoxyalkyl (méth)acrylamide et (D) un anhydride d’acide. Cette résine (méth)acrylate contenant un groupe acide fait preuve d’une sensibilité élevée à la lumière et d'une excellente performance de développement alcalin, et peut former un produit durci présentant une excellente fiabilité d’isolation.
(JA) 本発明は、フェノール性水酸基含有樹脂(A)と、環状カーボネート化合物(B1)または環状エーテル化合物(B2)と、N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミド化合物(C)と、酸無水物(D)とを必須の反応原料とすることを特徴とする酸基含有(メタ)アクリレート樹脂を提供する。この酸基含有(メタ)アクリレート樹脂は、高い光感度及び優れたアルカリ現像性を有しており、絶縁信頼性に優れた硬化物を形成することができる。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)