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1. (WO2019049463) 光造形用組成物
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国際公開番号: WO/2019/049463 国際出願番号: PCT/JP2018/023281
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 19.06.2018
IPC:
C08F 2/46 (2006.01) ,C08F 220/10 (2006.01) ,C08F 220/58 (2006.01) ,C08F 226/02 (2006.01) ,C08F 292/00 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
52
アミドまたはイミド
54
アミド
58
カルボンアミド酸素以外に酸素を含有するもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
226
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが窒素に対する単結合もしくは二重結合または窒素含有複素環によって停止されている化合物の共重合体
02
窒素に対する単結合または二重結合によって停止されている単量体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
292
単量体の無機材料への重合によって得られる高分子化合物
出願人:
株式会社エンプラス ENPLAS CORPORATION [JP/JP]; 埼玉県川口市並木2丁目30番1号 30-1, Namiki 2-chome, Kawaguchi-shi, Saitama 3320034, JP
発明者:
上本 紘平 JOHMOTO, Kohei; JP
石田 毅一郎 ISHIDA, Kiichiro; JP
小橋 一輝 KOBASHI, Itsuki; JP
代理人:
特許業務法人大貫小竹国際特許事務所 OHNUKI & KOTAKE; 東京都千代田区神田須田町二丁目25番地 山崎須田町ビル5階 Yamasakisudacho-Building 5th floor, 25, Kandasudacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
優先権情報:
2017-17049805.09.2017JP
2018-09185711.05.2018JP
発明の名称: (EN) STEREOLITHOGRAPHY COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE STÉRÉOLITHOGRAPHIE
(JA) 光造形用組成物
要約:
(EN) [Problem] To provide a stereolithography composition capable of improving the mechanical properties of a formed object in a high temperature environment and of sufficiently reducing viscosity during formation. [Solution] A stereolithography composition comprises a photocurable resin, an inorganic filler, and an additive which is a compound having an amide bond and a C=C unsaturated double bond in the molecule. The additive is preferably selected from an N-vinylformamide and a 4-acryloylmorpholine. The inorganic filler is preferably a layered silicate compound such as talc, silica, or mica. The above enables the formed object to have a storage modulus of 2000 MPa or higher in a high temperature environment and enables the viscosity during formation to be less than 2000 mPa∙s.
(FR) Le problème à la base de la présente invention concerne une composition de stéréolithographie en mesure d'améliorer les propriétés mécaniques d'un objet formé dans un environnement à haute température et de réduire suffisamment la viscosité pendant la formation. La solution selon l'invention porte sur une composition de stéréolithographie qui comprend une résine photodurcissable, une charge inorganique et un additif qui est un composé présentant une liaison amide et une double liaison C=C insaturée dans la molécule. L'additif est de préférence choisi parmi le N-vinylformamide et la 4-acryloylmorpholine. La charge inorganique est de préférence un composé de silicate à couches tel que le talc, la silice ou le mica. Le procédé ci-dessus permet à l'objet formé de présenter un module de conservation de 2000 MPa ou plus dans un environnement à haute température et permet à la viscosité pendant la formation d'être inférieure à 2000 mPa∙s.
(JA) 【課題】造形物において高温環境下での機械的物性を高くでき、且つ、造形時においては、粘度を十分に低くすることが可能な光造形用組成物を提供する。 【解決手段】光造形用組成物は、光硬化性樹脂と、無機フィラーと、分子中にアミド結合及びC=C不飽和二重結合を有する化合物である添加剤と、を含む。添加剤としては、N-ビニルホルムアミド、及び、4-アクリロモルホリンから選択するとよい。また、無機フィラーとしては、タルク、シリカ、マイカ等の層状ケイ酸塩化合物を用いるとよい。造形物の高温環境下において、貯蔵弾性率を2000MPa以上とすることができ、また、造形時において、粘度を2000mPa・s未満とすることが可能となる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)