このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019049453) 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/049453 国際出願番号: PCT/JP2018/022525
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 13.06.2018
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
出願人:
株式会社ジャパンディスプレイ JAPAN DISPLAY INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋三丁目7番1号 3-7-1 Nishi-shinbashi, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
発明者:
觀田 康克 KANDA Noriyoshi; JP
木村 泰一 KIMURA Yasukazu; JP
平賀 健太 HIRAGA Kenta; JP
松浦 由紀 MATSUURA Yuki; JP
代理人:
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ TAKAHASHI, HAYASHI AND PARTNER PATENT ATTORNEYS, INC.; 東京都大田区蒲田5-24-2 損保ジャパン日本興亜蒲田ビル9階 Sonpo Japan Nipponkoa Kamata Building 9F, 5-24-2 Kamata, Ota-ku, Tokyo 1440052, JP
優先権情報:
2017-17182907.09.2017JP
発明の名称: (EN) DEPOSITION MASK, METHOD FOR MANUFACTURING DEPOSITION MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE DE DÉPÔT, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MASQUE DE DÉPÔT, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D’AFFICHAGE
(JA) 蒸着マスク、蒸着マスクの作製方法、および表示装置の製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a deposition mask. The deposition mask has a metal plate that has: an upper surface; a lower surface, which is positioned below the upper surface, and which is disposed further than the upper surface from a substrate to be subjected to deposition; and an opening penetrating from the upper surface to the lower surface. The side wall of the opening has a first surface, and a second surface positioned below the first surface. A first angle formed between the first surface and the upper surface is larger than a second angle formed between the second surface and the upper surface. The first angle and the second angle are larger than 0° but smaller than 90°.
(FR) La présente invention concerne un masque de dépôt. Le masque de dépôt comporte une plaque métallique qui comporte : une surface supérieure ; une surface inférieure, qui est positionnée au-dessous de la surface supérieure, et qui est disposée plus loin que la surface supérieure d'un substrat devant être soumis à un dépôt ; et une ouverture pénétrant de la surface supérieure à la surface inférieure. La paroi latérale de l'ouverture a une première surface, et une seconde surface positionnée au-dessous de la première surface. Un premier angle formé entre la première surface et la surface supérieure est supérieur à un second angle formé entre la seconde surface et la surface supérieure. Le premier angle et le second angle sont supérieurs à 0° mais inférieurs à 90°.
(JA) 【解決手段】蒸着マスクが提供される。蒸着マスクは、上面と、上面の下に位置し、蒸着に供される基板に対して上面よりも遠くに配置される下面と、上面から下面へ貫通する開口とを有する金属板を有する。開口の側壁は第1の面、および第1の面の下に位置する第2の面を有する。第1の面と上面がなす第1の角度は、第2の面と上面がなす第2の角度よりも大きい。第1の角度と第2の角度は、0°よりも大きく、90°よりも小さい。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)