このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019049387) 欠陥分類装置、検査装置、および検査システム
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/049387 国際出願番号: PCT/JP2017/032731
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 11.09.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66
製造または処理中の試験または測定
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21
光学的手段,すなわち.赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84
特殊な応用に特に適合したシステム
88
きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95
調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956
物体表面のパターンの検査
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
近藤 貴則 KONDO Takanori; JP
本田 敏文 HONDA Toshifumi; JP
浜松 玲 HAMAMATSU Akira; JP
太田 英夫 OTA Hideo; JP
樹本 好央 KIMOTO Yoshio; JP
代理人:
特許業務法人平木国際特許事務所 HIRAKI & ASSOCIATES; 東京都港区愛宕二丁目5-1 愛宕グリーンヒルズMORIタワー32階 Atago Green Hills MORI Tower 32F, 5-1, Atago 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1056232, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) DEFECT CLASSIFICATION DEVICE, INSPECTION DEVICE, AND INSPECTION SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE CLASSIFICATION DE DÉFAUTS, DISPOSITIF D'INSPECTION ET SYSTÈME D'INSPECTION
(JA) 欠陥分類装置、検査装置、および検査システム
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of a film formation process in that a minute defect that an inspection before film formation (pre-inspection) has failed to detect becomes a larger film swelling due to film formation, and that, since the film swelling cannot be distinguished from an on-film defect, the film swelling is detected during an inspection after the film formation (post-inspection) as being an on-film defect that is on the film. In order to prevent the erroneous determination of the on-film defect, the sensitivity of the post-inspection has been reduced so that a film swelling due to a minute defect would not be detected. According to the present invention, classification is performed to determine whether a defect is at least one of an on-film defect and a film swelling, by performing a coordinate correction on the result of a post-inspection by means of an actual-defect fine alignment using the result of a pre-inspection performed with two-stage thresholds, and by checking defects against each other. In addition, classification is performed to determine whether a defect is at least one of an on-film defect and a film swelling by, during the post-inspection, preparing instruction data from information of the refractive index and thickness of a film formed on a wafer and comparing the instruction data with a signal intensity ratio of a detection system (see FIG. 1A).
(FR) La présente invention aborde le problème d'échec de détection d'un minuscule défaut lors d'une inspection avant la formation de film (pré-inspection) dans un processus de formation de film, lequel défaut devient un gonflement de film plus important du fait de la formation de film et, du fait que le gonflement de film ne peut pas être distingué d'un défaut sur film, le gonflement de film est détecté pendant une inspection après la formation de film (post-inspection) comme étant un défaut sur film qui se trouve sur le film. Afin d'empêcher la détermination erronée du défaut sur le film, la sensibilité de la post-inspection a été réduite de telle sorte qu'un gonflement de film dû à un défaut minuscule ne soit pas détecté. Selon l'invention, une classification est effectuée pour déterminer si un défaut est au moins l'un parmi un défaut sur le film et un gonflement de film, en effectuant une correction coordonnée sur le résultat d'une post-inspection au moyen d'un alignement précis de défaut réel à l'aide du résultat d'une pré-inspection effectuée avec des seuils à deux étages, et en effectuant une vérification croisée des défauts. De plus, une classification est effectuée pour déterminer si un défaut est au moins l'un d'un défaut sur le film et d'un gonflement de film en préparant, pendant la post-inspection, des données d'instruction à partir d'informations concernant l'indice de réfraction et l'épaisseur d'un film formé sur une tranche et en comparant les données d'instruction à un rapport d'intensité de signal d'un système de détection (cf. Figure 1A).
(JA) 成膜工程において、成膜前検査(Pre検査)で検出出来なかった微小な欠陥が成膜によってより大きな膜盛上りとなる。この膜盛上りと膜上欠陥の区別がつかないため、成膜後検査(Post検査)で膜盛上りを該膜上の膜上欠陥として検出されてしまう。この誤った膜上欠陥の判定を防ぐため、微小な欠陥起因の膜盛上りを検出しないようにPost検査の感度を下げて運用している。二段閾値で検査したPre検査結果を用いた実欠陥ファインアライメントによりPost検査結果の座標補正を行い、欠陥を突き合わせることで膜上欠陥と膜盛上りの少なくともいずれかの分類を行うものである。またPost検査において、ウエハ上に形成される膜の屈折率および厚さの情報により教示データを準備し、検出系の信号強度比と比較して膜上欠陥と膜盛上りの少なくともいずれかの分類を行うものである(図1A参照)。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)