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1. (WO2019049260) 画像処理装置
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国際公開番号: WO/2019/049260 国際出願番号: PCT/JP2017/032274
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 07.09.2017
IPC:
H01J 37/153 (2006.01) ,H01J 37/22 (2006.01) ,H01J 37/26 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
153
像欠陥を補正するための電子光学的またはイオン光学的装置,例.スチグマトール
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
22
管と関連した光学または写真装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
26
電子またはイオン顕微鏡;電子またはイオン回折管
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
玉置 央和 TAMAKI Hirokazu; JP
谷口 佳史 TANIGUCHI Yoshifumi; JP
土橋 高志 DOBASHI Takashi; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) IMAGE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'IMAGE
(JA) 画像処理装置
要約:
(EN) In the present invention, a charged particle beam device uses an optical system with a lens, and because of this optical system, an image distortion occurs in a sample structure 53, an image of which is formed within an observation visual field 51. A first image (1), which is obtained by the charged particle beam device, and a predicted image (2), (3), or (4), produced respectively on the basis of a deformation function 60, 61, or 62, are created; the created predicted image is compared against a second image, which is obtained by the charged particle beam device after a sample is moved; on the basis of the result of the comparison, it is evaluated whether the deformation function is close to actual distortion characteristics; and a function parameter is adjusted so as to minimize the difference between the predicted image and an image that is actually obtained after the field of vision is moved, thereby obtaining a distortion function for the optical system of the device.
(FR) Selon la présente invention, un dispositif à faisceau de particules chargées met en œuvre un système optique avec une lentille, et du fait de ce système optique, une distorsion d'image se produit dans une structure d'échantillon (53) dont une image est formée à l'intérieur d'un champ visuel d'observation (51). Une première image (1), qui est obtenue par le dispositif à faisceau de particules chargées, et une image prédite (2), (3), ou (4), produite respectivement sur la base d'une fonction de déformation (60), (61), ou (62), sont créées ; l'image prédite créée est comparée à une seconde image, qui est obtenue par le dispositif à faisceau de particules chargées après que l'échantillon a été déplacé ; sur la base du résultat de la comparaison, il est évalué si la fonction de déformation est proche des caractéristiques de distorsion réelle ; et un paramètre de fonction est ajusté de façon à minimiser la différence entre l'image prédite et une image qui est réellement obtenue après que le champ de vision est déplacé, de sorte à obtenir une fonction de distorsion pour le système optique du dispositif.
(JA) レンズを用いた光学系を利用する荷電粒子線装置においては、その光学系によって、観察視野51内に結像される試料構造53に像歪みが生じる。そこで、荷電粒子線装置によって得られた第1の画像(1)と、変形関数60、61、或いは62とから作成された予想画像(2)、(3)、或いは(4)を作成し、作成した予想画像と荷電粒子線装置による試料移動後に得られた第2の画像との比較を行い、その比較結果に基づき、変形関数が実際の歪み特性に近いものであるかを評価し、予想画像と実際に得られた視野異動後の像の差が小さくなるように関数パラメータを調整することにより、装置の光学系の歪み関数を得る。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)