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1. (WO2019049219) 基板回転装置および基板処理装置
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国際公開番号: WO/2019/049219 国際出願番号: PCT/JP2017/032008
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 05.09.2017
IPC:
H01L 21/683 (2006.01) ,F16H 49/00 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
H
伝動装置
49
その他の伝動装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
倉敷紡績株式会社 KURASHIKI BOSEKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 岡山県倉敷市本町7番1号 7-1, Hommachi, Kurashiki-shi, Okayama 7100054, JP
発明者:
横田 博 YOKOTA, Hiroshi; JP
樋川 英昭 HIKAWA, Hideaki; JP
代理人:
河原 哲郎 KAWAHARA, Tetsuro; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SUBSTRATE ROTATING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE ROTATION DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板回転装置および基板処理装置
要約:
(EN) [Problem] To provide a substrate rotating device with which a contamination source in a container can be reduced and which is easier to maintain. [Solution] A substrate rotating device 10 comprises: an outer frame body 20 which is provided with a magnetic field generating means and which can cause a generated magnetic field to rotate about a central axis; a container 40 disposed on the inside of the outer frame body; an inner frame body 50 which is disposed in the container and is provided with a substrate 60 holding means and circumferentially distributed magnets or ferromagnetic materials; a magnetic coupling means which magnetically couples the outer frame body with the inner frame body to cause the inner frame body to float, and which causes the inner frame body to rotate so as to follow a rotational change in the magnetic field; and a gap adjusting means which keeps a constant interval between the outer frame body and the inner frame body, and which maintains the inner frame body concentric with the outer frame body.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de pourvoir à un dispositif de rotation de substrat avec lequel une source de contamination dans un contenant puisse être réduite et qui soit plus facile à entretenir. La solution selon l'invention porte sur un dispositif de rotation de substrat 10 qui comprend : un corps de structure externe 20 qui est pourvu d'un moyen de génération de champ magnétique et qui peut faire tourner autour d'un axe central un champ magnétique généré ; un contenant 40 disposé à l'intérieur du corps de structure externe ; un corps de structure interne 50 qui est disposé dans le contenant et est pourvu d'un moyen de retenue de substrat 60 et d'aimants ou de matériaux ferromagnétiques répartis de manière circonférentielle ; un moyen de couplage magnétique qui couple magnétiquement le corps de structure externe au corps de structure interne pour faire flotter le corps de structure interne, et qui fait tourner le corps de structure interne de manière à suivre la variation rotative du champ magnétique ; et un moyen d'ajustement d'écartement qui maintient un intervalle constant entre le corps de structure externe et le corps de structure interne, et qui maintient le corps de structure interne concentrique avec le corps de structure externe.
(JA) [課題]容器内の汚染源を減らし、より保守が容易な基板回転装置を提供すること。 [解決手段]磁場発生手段を備え、発生した磁場を中心軸の周りに回転可能な外枠体20と、前記外枠体の内側に配置された容器40と、前記容器内に配置され、基板60保持手段と周方向に分散配置された磁石または強磁性体とを備える内枠体50と、前記外枠体と前記内枠体を磁気的に結合して、該内枠体を浮上させるとともに、該内枠体を前記磁場の回転変化に追随させて回転させる磁気結合手段と、前記外枠体と前記内枠体の間隔を一定に保ち、該内枠体を該外枠体と同心に維持するギャップ調整手段とを有する基板回転装置10。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)