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1. (WO2019049208) X線発生装置用ターゲット、このX線発生装置用ターゲットを備えたX線発生装置、および、X線発生装置用ターゲットの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/049208 国際出願番号: PCT/JP2017/031950
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 05.09.2017
IPC:
H01J 35/08 (2006.01) ,G21K 5/08 (2006.01) ,H01J 9/14 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
35
X線管
02
細部
04
電極
08
陽極;対陰極
G 物理学
21
核物理;核工学
K
他に分類されない粒子線または電離放射線の取扱い技術;照射装置;ガンマ線またはX線顕微鏡
5
照射装置
08
照射されるターゲットまたは物体の保持具
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
9
電子管,放電ランプまたはその部品の製造に特に適用される装置または方法;電子管または放電ランプからの材料の回収
02
電極または電極システムの製造
14
電子を放射しない電極の製造
出願人:
株式会社島津製作所 SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地 1, Nishinokyo Kuwabara-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511, JP
発明者:
前田 裕樹 MAEDA Hiroki; JP
代理人:
大坪 隆司 OTSUBO Takashi; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) TARGET FOR X-RAY GENERATORS, X-RAY GENERATOR PROVIDED WITH THIS TARGET FOR X-RAY GENERATORS, AND METHOD FOR PRODUCING TARGET FOR X-RAY GENERATORS
(FR) CIBLE POUR GÉNÉRATEURS DE RAYONS X, GÉNÉRATEUR DE RAYONS X POURVU DE LADITE CIBLE POUR GÉNÉRATEURS DE RAYONS X ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CIBLE POUR GÉNÉRATEURS DE RAYONS X
(JA) X線発生装置用ターゲット、このX線発生装置用ターゲットを備えたX線発生装置、および、X線発生装置用ターゲットの製造方法
要約:
(EN) This target 1 for X-ray generators is provided with: a frame 11; a base material 14 which is brazed to the frame 11 by means of a brazing material 12; and a target material 13 which is film formed over the central region of the surface of the base material 14 and a part of the surface region of the frame 11 after the brazing of the frame 11 and the base material 14. Diamond, which has high thermal conductivity, is used as the base material 14 for the purpose of improving the heat dissipation properties and thereby preventing temperature rise of the target material 13. Since the diamond is a non-conductive material, the target material 13 is provided with an extension part 18 that extends to the surface of the frame 11 for the purpose of electrically connecting the target material 13 and the base material 11 with each other.
(FR) La présente invention concerne une cible (1) pour générateurs de rayons X qui est pourvue : d'un cadre (11) ; d'un matériau de base (14) qui est brasé au cadre (11) au moyen d'un matériau de brasage (12) ; et d'un matériau cible (13) qui est un film formé sur la région centrale de la surface du matériau de base (14) et une partie de la région de surface du cadre (11) après le brasage du cadre (11) et du matériau de base (14). Le diamant, qui a une conductivité thermique élevée, est utilisé en tant que matériau de base (14) pour améliorer les propriétés de dissipation de chaleur et empêcher ainsi la montée en température du matériau cible (13). Comme le diamant est un matériau non conducteur, le matériau cible (13) est pourvu d'une partie d'extension (18) qui s'étend vers la surface du cadre (11) dans le but de connecter électriquement le matériau cible (13) et le matériau de base (11) l'un à l'autre.
(JA) X線発生装置用ターゲット1は、フレーム11と、このフレーム11に対してろう材12によりろう付けされた基材14と、フレーム11と基材14とのろう付け後に、基材14の表面の中央領域とフレーム11の一部の表面領域とにわたって成膜されたターゲット材13とを備える。基材14としては、放熱性を向上させてターゲット材13の温度上昇を防ぐ目的で、熱伝導率の高いダイヤモンドが使用される。このダイヤモンドは、非導電性部材であることから、ターゲット材13と基材11との電気的導通を図る目的で、ターゲット材13にはフレーム11の表面まで伸びる延設部18が形成される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)