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1. (WO2019048506) TRAINING METHODS FOR MACHINE LEARNING ASSISTED OPTICAL PROXIMITY ERROR CORRECTION
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国際公開番号: WO/2019/048506 国際出願番号: PCT/EP2018/073914
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 05.09.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/36 (2012.01) ,G06F 17/50 (2006.01) ,G06N 99/00
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
36
近接効果補正に特徴を有するマスク;その準備,例.光近接効果補正デザインプロセス
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
17
特定の機能に特に適合したデジタル計算またはデータ処理の装置または方法
50
計算機利用設計
G 物理学
06
計算;計数
N
特定の計算モデルに基づくコンピュータ・システム
99
このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項
出願人:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
発明者:
SU, Jing; US
LU, Yen-Wen; US
LUO, Ya; US
代理人:
PETERS, John; NL
優先権情報:
62/556,24608.09.2017US
62/725,73431.08.2018US
発明の名称: (EN) TRAINING METHODS FOR MACHINE LEARNING ASSISTED OPTICAL PROXIMITY ERROR CORRECTION
(FR) PROCÉDÉS D'APPRENTISSAGE DE CORRECTION OPTIQUE D'ERREUR DE PROXIMITÉ ASSISTÉE PAR APPRENTISSAGE AUTOMATIQUE
要約:
(EN) A method including: obtaining an optical proximity correction for a spatially shifted version of a training design pattern (5000); and training a machine learning model (5200) configured to predict optical proximity corrections for design patterns using data (5051; 5053) regarding the spatially shifted version of the training design pattern and data (5041; 5043) based on the optical proximity corrections for the spatially shifted version of the training design pattern.
(FR) L'invention concerne un procédé qui comprend les étapes suivantes : obtention d'une correction optique de proximité pour une version décalée dans l'espace d'un motif de conception d'apprentissage (5000); et apprentissage d'un modèle d'apprentissage automatique (5200) configuré afin de prédire des corrections optiques de proximité pour des motifs de conception à l'aide de données (5051; 5053) concernant la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage et des données (5041; 5043) sur la base des corrections optiques de proximité pour la version décalée dans l'espace du motif de conception d'apprentissage.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)