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1. (WO2019048145) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
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国際公開番号: WO/2019/048145 国際出願番号: PCT/EP2018/071069
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 02.08.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
発明者:
MATHIJSSEN, Simon, Gijsbert, Josephus; NL
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
代理人:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
優先権情報:
17190401.411.09.2017EP
17193415.127.09.2017EP
発明の名称: (EN) METROLOGY IN LITHOGRAPHIC PROCESSES
(FR) MÉTROLOGIE DANS DES PROCÉDÉS LITHOGRAPHIQUES
要約:
(EN) An apparatus and method for estimating a parameter of a lithographic process and an apparatus and method for determining a relationship between a measure of quality of an estimate of a parameter of a lithographic process are provided. In the apparatus for estimating the parameter a processor is configured to determine a quality of the estimate of the parameter relating to the tested substrate based on a measure of feature asymmetry in the at least first features of the tested substrate and further based on a relationship determined for a plurality of corresponding at least first features of at least one further substrate representative of the tested substrate, the relationship being between a measure of quality of an estimate of the parameter relating to the at least one further substrate and a measure of feature asymmetry in the corresponding first features.
(FR) La présente invention concerne un appareil et un procédé pour estimer un paramètre d'un processus lithographique ainsi qu'un appareil et un procédé pour déterminer une relation entre une mesure de qualité d'une estimation d'un paramètre d'un processus lithographique. Dans l'appareil pour estimer le paramètre, un processeur est conçu pour déterminer une qualité de l'estimation du paramètre relatif au substrat testé sur la base d'une mesure d'asymétrie de caractéristique dans au moins les premières caractéristiques du substrat testé et, en outre, sur la base d'une relation déterminée pour au moins une pluralité de premières caractéristiques correspondantes d'au moins un autre substrat représentatif du substrat testé, la relation étant entre une mesure de qualité d'une estimation du paramètre relatif à l'autre ou aux autres substrats et une mesure d'asymétrie de caractéristique dans les premières caractéristiques correspondantes.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)